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1.
皇甫国庆 《渭南师范学院学报》2002,17(5):3-5
本实验将基础光学知识应用于激光溅射沉积（简称PLD）中对溅射产物的空间分布进行测量的研究，将此做为现代物理实验可以培养学生运用基础物理实验方法进行科学研究的素养。 相似文献
2.
《实验室研究与探索》2017,(2):26-29
研究了激光等离子体推进中掺碳甘油在纳秒脉冲激光烧蚀后的烧蚀溅射特征。以石墨块材容器盛放不同质量分数的掺碳甘油工质,在波长1 064 nm,脉冲10 ns的YAG激光器不同能量的烧蚀下,分别进行靶动量、掺碳甘油散射斑和质量损失的采集。结果发现,随着激光能量的增强,溅射的甘油总量增加,液滴变小;随碳含量的增加,甘油溅射量明显降低,在碳含量达到5%时,观察不到甘油的溅射。该结果表明,碳掺杂能有效降低溅射量,但动量耦合系数与推进比冲随溅射量的减少也相应的降低,这是由于靶动量的产生主要来自于伴随等离子体产生而发生的液体溅射,同时掺碳甘油中聚焦点的转移也起到了部分作用。 相似文献
3.
应用激光溅射-分子束技术研究了气相中钻团簇离子与甲醇的反应。实验中观察到了等团簇。实验表明随着激光能量的增加,团簇的尺寸减小,在分子束的中端信号强度最大。研究发现实验产物主要是通过钴团簇离子与甲醇分子碰撞粘合形成的。 相似文献
4.
利用SRIM2013软件,分别模拟计算了3组合金靶材Fe-Cr、Cu-Ni和Au-Ag在氩离子入射时的溅射产额,根据计算结果得出3组合金均存在择优溅射现象,择优溅射与金属原子的表面结合能有关的结论。同时模拟了 Au-Ag合金的溅射产额随入射离子能量和合金成分的变化情况,并分析其择优溅射机制。 相似文献
5.
6.
郑东 《中国现代教育装备》2007,(10):19-20
在扫描电镜非导电或导电性差的样品制备过程中,通常使用等离子溅射镀膜方法对样品表面进行导电处理。本文主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并简单介绍了磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等。 相似文献
7.
溅射工艺中衬底的温度参数是形成良好台阶覆盖的重要因素,本文通过实验对不同温度下铝膜的台阶覆盖情况进行实验研究,从而总结出铝膜溅射工艺中符合工艺要求的温度参数情况。 相似文献
8.
实验利用飞秒脉冲激光沉积Cu纳米颗粒薄膜,获得不同激光能量时溅射Cu粒子空间分布结果,并结合Matlab、Excel和Origin等软件对这些数据进行处理分析。实验结果表明：Cu纳米颗粒的空间分布遵循Anisimov气体膨胀模型,大部分的粒子主要集中在基片与溅射源中心线附近在小立体角度（θ〈30°）范围扩散。最后,实验选取合适立体溅射角度（θ≈30°）,能量密度约为0．72J／cm2时,在不同曝光时间条件下溅射Cu纳米颗粒薄膜,并采用原子力显微镜（AFM）表征了膜厚变化情形,综合分析了纳米颗粒薄膜空间沉积成膜的过程和规律,为后继数值模拟分析提供了实验验证依据。 相似文献
9.
SiCN薄膜通过反应溅射法制备,并通过红外吸收谱（IR）进行表征。结果表明,薄膜中的N含量受衬底温度、N2流量、溅射功率影响。低的衬底温度会有利于N的进入,衬底温度过高,N含量将显著下降。在恰当的N2流量下才能在薄膜中获得最高的N含量。提高溅射功率可以使得薄膜中N含量升高。 相似文献
10.
为研究Ti/Al多层膜的结构和热稳定性与溅射气压的关系,采用对向靶直流磁控溅射法在0.5、2.0 Pa的溅射气压下制备了Ti/Al软X射线光学多层膜(Λ=9.25 nm,Г=0.3,N=20),并采用低角度X射线衍射、高角度X射线衍射和原子力显微镜对其结构和热稳定性进行表征.发现:低溅射气压(0.5 Pa)下制备的多层膜具有相对高质量、有序的结晶层,导致了相对较小的表面粗糙度,热稳定性好;高溅射气压(2.0 Pa)下制备的多层膜周期性结构相对较差,晶向较为无序,表面粗糙度较大,结构热稳定性差.可见,Ti/Al多层膜的结构和热稳定性是溅射气压的函数,低溅射气压下制备的多层膜会获得更好的结构和热稳定性. 相似文献
11.
采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射光谱(XRD)表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角(SCA)评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5:5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4:6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。 相似文献
12.
13.
反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积Cu-Al-O薄膜,并对薄膜进行退火处理,研究溅射功率和退火温度对薄膜结构和光电学性质的影响。用X射线衍射仪、分光光度计等仪器对薄膜的性质进行表征,采用拟合正入射透射谱数据计算薄膜的厚度。结果表明：不同溅射功率条件下制备的薄膜为非晶态,透射率在近红外部分达到60%以上,电阻率随溅射功率的增加呈U型变化,在120 W附近,电阻率达到极小值;退火后,薄膜的XRD谱出现Cu4O3、Cu O和Al2O3的混合相,薄膜透射率有所提高,电阻率随退火温度的提高而先增大后减小。 相似文献
14.
付淑英 《韩山师范学院学报》2010,31(3):35-37,42
以直流反应磁控溅射方法在Si（111）基底上制备薄膜TiN.研究发现：在保持其他工艺参数不变的条件下,溅射气压在0.3～1.3 Pa范围内,薄膜的主要成分是（111）择优取向的立方相TiN.当溅射气压为0.5 Pa时,沉积的薄膜膜层致密均匀,色泽金黄,膜厚为115.8 nm,结晶性能好.在可见光区半透明而在红外光区呈高反射,红外反射率为90%,具有良好的太阳光谱选择性. 相似文献
15.
利用磁控溅射法在玻璃基片制备TbCo非晶垂直磁化膜,采用样品振动磁强计和磁转矩测量仪测量薄膜的磁性能和磁转矩曲线．结果表明：Cr底层、TbCo磁性层组分、溅射气压、基片偏压、退火温度和TbCo磁性层厚度对薄膜的磁各向异性能都有很大影响．． 相似文献
16.
采用非醇盐溶胶-凝胶工艺在Al_2O_3基片上旋转涂敷制得掺Sb的SnO_2薄膜。再经直流溅射制得掺Pt的Sb:SnO_2薄膜,探讨了不同Pt添加量对气敏性能的影响。结果表明,对Pt的溅射时间为90s时,元件对50ppm浓度乙醇气体的灵敏度高达43。经选择性研究表明,该元件有较好的选择性和优异的酒敏特性。 相似文献
17.
Ming-Der Jean Ji-Bin Jiang Jia-Yi Chien 《European Journal of Engineering Education》2017,42(6):701-711
The purpose of this study was to construct the indicators of professional competencies of the nanotechnology-based sputtering system industry based on industry requirements and analyse the core competencies of the industry for promoting the human resource of physical vapour deposition technology. The document analysis, expert interview, and Delphi technique surveys were considered and the survey items with 32 items divided into 7 domains were selected according to consensus opinions of 10 experts by the Delphi survey technique. Through three questionnaire surveys’ analysis, the professional competence scales for the K–S tests showed a good internal consistency. The findings of this study provide guidelines for professional competence for nanotechnology-based sputtering technology by applying surface heat-treatment industry. These guidelines can also reveal the practical competency requirements of nanotechnology-based sputtering technology to deal with any subsequent challenges, future developments, and invisible services for students in a technology institute programme. 相似文献