首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到10条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
《寻根》2020,(3)
正"夜潮秋月相思"作于1954年12月。这时,钱君已经在北京住了两年。他是一个人到北京出任音乐出版社副总编辑的,家属仍在上海,生活多有不便。加之久居南方,不服北方水土,乡愁愈来愈浓,于是在重刻"钟声送尽流光"之后,又有了这方巨印。  相似文献   

2.
林夏 《寻根》2023,(5):70-71
<正>《吴颐人篆刻、印跋新作》收录70余方印及边款跋语和岩画,是吴颐人先生几十年追求边款艺术的杰出成果,于2014年4月出版。全书边款跋语:“从自身体验出发,揭示生活感受,不放过火花一闪,努力上升到一群人一代人心中皆有,却不曾说出的事物,自省省人,一诚领先,涤尽教训读者陈词,学习童眼观世,读书如读人,读人如观书。不断精炼,蒸馏,滤掉渣滓,直到胸臆,反复推敲。”(柯文辉:《听良心吩咐而造境》,《吴颐人篆刻、印跋新作》,上海人民出版社,2012年)  相似文献   

3.
林夏 《寻根》2020,(2):82-83
《广州三月作书贾》也是《战地组印》中的一方。钱君酝酿于20世纪40年代,计划五十纽,记录他在日本帝国主义侵略中国时的流亡生涯。因为忙迫,只刻印了一部分,但每方印的边款都有或多或少的文字记述。抗日战争全面爆发后,"甘美之境,尽为日敌毁灭","故乡无限好,只是久留难"。  相似文献   

4.
林夏 《寻根》2021,(2):72-73
吴昌硕(1844-1927),名俊卿,字昌硕,号缶庐。浙江安吉人。诗、书、画、印全能的艺术家,海派艺坛的领军人物。他的篆刻熔铸诸派之长,入古出新,自成家数。人物是吴昌硕边款书画结合的一个重要内容。"虚素"印,顶款"凡智与言从虚素生,则无邪欲也",是对印文的解释。虚素,虚静淡泊之意。"壬子立秋后三日,缶道人刻于扈"记录了时间、地点与刻制者。壬子,1912年。印侧阳刻一坐佛,线条极为简练,沉思之态,跃然而出。  相似文献   

5.
王来华 《世界文化》2014,(1):I0001-I0004
<正>尺寸:47×22.4×4.4(cm);年代:清晚期;使用地:闽南地区(厦门)赏析:(龟与桃图纹)此粿印尺幅较大,浅刻,中间有凹,涂红漆,带柄。正面刻一大龟,龟板中心刻"囍"字,字周围均匀刻八组折纹,龟板外除刻吉祥花卉外,另刻福禄寿全四个小字。龟头和四脚刻画较深。背面刻小龟、桃和钱币三个纹饰。侧面也刻有纹饰,一面刻钱  相似文献   

6.
胡钁(1840-1910),字菊邻,浙江石门人。1905年,他应友人杨见心之请刻的"硬黄一卷写兰亭",边款中的文字与图像结合为一体,堪称佳作。印文"硬黄一卷写兰亭",出自陆游《山居戏题》中"硬黄一卷学兰亭"句,改了一字。兰亭,指《兰亭集序》。东晋永和九年(353年)三月三日,书法家王羲之在会稽山阴的兰亭与文人好友聚会,行修禊之礼。  相似文献   

7.
印章源始三代,盛極秦漢。清嘉、道以還,研討金石篆刻之學風靡一時。有蓄萬印以示富者,有飾金玉以爭奇者,凡此蒐集賞玩,與刓刻無涉;迨編輯印擧、印範,流傳藝林,俾益後學,厥功鉅偉。蓋鉨印為古人昭信之物,方寸精微,或鑿,或刻,或鑄,其結構點畫之雄麗朴(木矛木),輒逾於鐘鼎、彝尊、秦權、漢镫。  相似文献   

8.
谷子 《世界文化》2009,(11):40-42
人没有名气,画就没有名气;画没有名气,人就更难有名气。除去那些货真价实的人和画,剩下的,如果果真想有个名儿,就得把“功夫”使在画外,比方说在姓名前面封个号冠个名,任何场合再有意无意地张扬一下;或请名人写个字题个跋钤个印……于是,人有“名”了,画有“名”了,这也算是另一类的“始知名画有功夫”吧。  相似文献   

9.
田承军 《寻根》2022,(2):100-107
黄易(1744—1802),字大易,号小松,又号秋,别署秋影庵主、散花滩人等.浙江钱塘人.工书,善绘事,精通诗文,尤长于金石之学,为篆刻"西泠八家"之一.著有《小蓬莱阁金石文字》《小蓬莱阁金石目》,辑有《黄氏秦汉印谱》《种德堂集印》等,其诗文被后人辑为《秋 遗稿》.  相似文献   

10.
在傳衍至今的王羲之書法系統中,《集王聖教序碑》是僅次於《蘭亭序》的一件書法名品,它第一次因爲書法的原因而刻石,成爲所謂的"帖"。《集王聖教序碑》拓本的傳拓可以使人們更容易地學習王羲之的書法。該碑經現代金石學家整理過的拓本,從宋代到明清的文字變化,是確定拓本時代的主要指標。明以前爲不斷本,之後缺損字較多。重要的拓本被藏家留下印記和題跋,往往具有重要的史料價值。題跋中也不乏關於善拓經濟價值的記載和曲折的流傳經歷,崇恩的"墨皇本"是其中最爲著名的一件。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号