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相似文献
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1.
基于FIB直写及辐照技术加工制备了金膜的三维立体结构,并测量了薄膜结构形变量随辐照时间的变化,分析了其动态变化过程及机理。结果表明,金膜在离子束辐照下,金原子和镓离子相互作用,在金膜内部产生空位及位错,从而引起薄膜应力,经过一定的弛豫时间,应力发生释放,随后三维结构的形变量随着镓离子辐照剂量的增加缓慢变化。  相似文献   

2.
研究了实验室条件下采用电化学腐蚀方法制备原子力量微镜探针的工艺及实验参数对探针腐蚀精细程度的影响。实验设备虽然简单,但能制备出实用的探针。在制备过程中变量较多,可操作性强,使学生能深刻理解探针与样品表面相互作用过程,并对原子力显微镜的应用有初步的了解。  相似文献   

3.
采用高精度三维雕刻机雕刻出小尺寸管式五孔探针的球形探头,通过拼接完成五孔探针的制作,研发了高精度五孔探针校准实验台,在小型直流风洞的出风口对小尺寸管式五孔探针进行了校准,提出了基于低风速校准的三维风速线性插值识别方法并进行了验证。结果表明,研制的小尺寸管式五孔探针成本低,制作方便且有良好的加工精度,研发的成套校准技术能快速完成校准曲线且数据可靠,提出的线性插值算法对三维风速识别有很高的精度,开发的小尺寸管式五孔探针和校准技术有较好的应用前景。  相似文献   

4.
基于气动稳流方法,研制了一种流式细胞仪三维液流聚焦的液流系统。通过大量的实验数据,分析了所搭建系统的鞘液流量与气动装置中气压之间的关系,得出了细长孔动态流动的流量经验公式适用于所搭建的系统。利用CCD荧光成像方法对系统的样品聚焦稳定性进行了定性测试。使用Matlab软件对APD探测的多组样品聚焦的荧光信号进行了计算和分析,定量地评定了系统的样品聚焦稳定性。结果显示,研制的液流系统的样品聚焦宽度14μm时,脉动低于0.5μm;聚焦样品流的荧光信号的波动方差低于0.606。  相似文献   

5.
利用磁控溅射法在单晶硅基底上制备了200nm厚的坡莫合金薄膜,然后利用能量为500eV、束流密度为1mA/cm2的氩离子束分别以不同的入射角度对薄膜进行刻蚀。采用电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)、多晶X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电子显微镜(SEM)对沉积薄膜的成分、晶体结构和微观形貌进行了测试和分析。利用探针式表面轮廓分析仪测量研究坡莫合金(Ni81Fe19)薄膜刻蚀速率与离子入射角度的关系。实验结果发现:随着氩离子束入射角度变大,坡莫合金薄膜的刻蚀速率逐渐变大;当氩离子束入射角度为50°时,刻蚀速率达到最大值(60nm/min);随着氩离子束入射角度进一步增大到80°,刻蚀速率迅速降低到极小值。  相似文献   

6.
使用电子束曝光或者聚焦离子束设备制备纳米针尖,虽然精度高但不能大面积快速制备;使用紫外曝光设备可以大面积快速制备,但制备精度达不到纳米量级。该文基于泊松亮斑效应,提出在常规紫外曝光设备中制备大面积、可控的纳米针尖阵列的方法。通过调控掩膜版图形和曝光剂量得到了直径小于100 nm的光刻胶的纳米针尖阵列,然后用反应离子刻蚀将光刻胶图案转移到硅衬底上得到了直径小于50nm、径高比达1∶10的超细纳米针尖阵列。泊松亮斑曝光能极大地提高紫外曝光机的分辨率,该方法可操作性强并可大面积制备,是一种可行的曝光技术。  相似文献   

7.
SiC颗粒增强铝合金复合材料(SiC_p/Al)由于结构复杂,在结构分析工作中既需要定点取样,又需要尽可能大的观察区域以满足对各结构单元之间相互作用的研究,故透射电子显微镜(TEM)样品制备工作存在较大的困难。采用聚焦离子束(FIB)外置取出方法制备TEM样品,在真空室内切割出较大面积的薄片样品,并将其在真空室外取出,置于覆膜铜网上。由于一片覆膜铜网上可以承载多片样品,这样一次进样可以对多个区域进行观察。实验结果证实样品可观察区域足够,样品质量满足TEM要求,观察效率高,同时由于这种方法高效低成本的特点,在相近材料和一些实验量庞大的材料结构解析工作中具有可推广性。  相似文献   

8.
本文对原子吸收法测定样品中铜的含量进行探究,利用标准曲线法作为定量分析方法,在仪器推荐的浓度范围内,制备含待测元素的对照样品溶液6份,浓度依次递增。用原子吸收分光光度计测量出不同浓度下样品溶液的吸光度,绘制出浓度吸光度标准曲线。探究所测样品吸光度下含铜的浓度。  相似文献   

9.
利用Suzuki反应制备得到三苯胺三吡啶(TPPA),通过季铵盐成盐反应制备得到超分子荧光探针(TPPA-DBB).通过核磁质谱仪、红外光谱仪、紫外-可见光度计、荧光光谱仪、动态光散射测试仪和激光共聚焦显微镜等对产物进行表征.结果表明:TPPA-DBB超分子荧光探针表现出很好的聚集诱导荧光性质(AIE)和长斯托克位移.细胞成像结果显示:TPPA-DBB超分子荧光探针是一种与DNA强力结合的荧光染料,并且具有很好的生物相容性.  相似文献   

10.
《中国科技奖励》2013,(7):47-51
[湖北省自然科学奖一等奖] 纳米光电材料的设计、制备与离子束改性研究 完成人:蒋昌忠、廖蕾、任峰、肖湘衡、李金钗 完成单位:武汉大学 本项目研究为纳米材料的设计、制备及利用离子束技术提升其性能提供了新思路,为开发新型纳米光电材料和器件奠定了理论基础和技术储备.在国际上获得了较高的学术影响力,取得的有特色的创新性研究成果如下: 1.在国际上首次利用离子束技术获得了结构和等离激元光学性能可控的多层结构金属纳米颗粒,揭示了离子束与金属纳米结构相互作用新特点以及离子束纳米结构调控新机理.在纳米尺度下,离子束与固体相互作用导致的级联碰撞效应和缺陷自扩散效应是多层结构纳米颗粒形成的机理.  相似文献   

11.
通过对电镜工作原理的研究,分析了不同探针电流对电镜图像分辨率、景深、荷电现象的影响因素,总结了选择最佳探针电流的原则。探针电流升高,束斑直径变大,信噪比变好,但图像分辨率下降,景深减小,荷电现象增强;探针电流降低,束斑直径减小,分辨率增高,景深增加,有利于减弱荷电现象,但是探针电流过小,噪声增大,聚焦困难,图像分辨率反而下降。实验表明,结合样品的特征,灵活地选择探针电流能显著地提高电镜图像质量。  相似文献   

12.
探针对扫描隧道显微镜成像起至关重要的作用。本文分别对电化学腐蚀法自制的钨丝探针和剪切法制得的铂铱探针进行扫描光栅图像比较分析。结果表明,相比铂铱探针,钨丝探针虽然制备繁琐,反应条件不易控制,但是尖锐轴对称形的钨丝探针扫描样品形貌更加细微,用作扫描隧道显微镜探针时扫描成像质量高。该研究为扫描隧道显微镜探针的选用提供了依据。  相似文献   

13.
为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过调节离子束的能量、束流密度和入射角等工艺参数对抛光效果的影响。试验结果表明,随离子束能量的增加,试件的表面粗糙度RMS先减小后增大,当离子束能量为200~600 eV时试件表面粗糙度明显提高,为离子束抛光能量最佳范围。离子束流入射最佳角度范围为45°~60°,随着离子束抛光时间的增加,试样表面粗糙度先降低后增大。  相似文献   

14.
冷冻电子显微三维重构技术(简称冷冻电镜)能够解析生物大分子复合体的高分辨率三维结构。冷冻电镜不需要样品结晶,适用的生物样品较为宽泛,且保持了生物样品的近生理状态。近年来随着电镜硬件和计算机图像处理软件技术的发展,冷冻电镜结构解析分辨率已经达到原子水平,逐渐成为生物结构解析的主流方法之一。该文介绍了冷冻电镜三维重构技术的起源、发展及未来趋势。  相似文献   

15.
以单模石英光纤为材料,首先用管腐蚀的方法制备出光纤探针,然后在管表面镀一层银膜,构成具有表面增强特性的管状光纤探针。将光纤探针应用到拉曼光谱仪上,实际测量了几个具有代表性样品的拉曼光谱,实验表明效果较好。  相似文献   

16.
利用低温分子束外延技术制备高质量的GaMnAs薄膜,通过XRD对样品进行分析,从实验和理论上分析生长条件、退火条件对薄膜缺陷及薄膜性能的影响.尤其是分析系统的研究间隙位Mn原子与As反位原子缺陷的变化,从而深入理解掺杂原子的周围结构与磁性之间的关系,为下一步制备自旋器件提供高载流子浓度、高居里温度的(Ga,Mn)As材料提供了可能性.  相似文献   

17.
文章采用磁控溅射的方法在n型硅基底上制备了CoN和SiN薄膜,再用薄膜测厚仪和四探针测试仪(EPP)测出样品的厚度及方块电阻,得到制备CoN和SiN薄膜的优化条件,然后由CoN和SiN薄膜制备出CoSiN薄膜。  相似文献   

18.
目前 ,我国引进的一般商业性的 SPM(扫描探针显微镜 )中缺少误差的自动修正和改进系统 .为了解决这一问题 ,研制了一软件系统 ,该系统可对标准样品—— HOPG的测量图像进行滤波处理 ,求出原子的边缘和重心 ,以及原子重心的平均距离及其均方根误差 ,为实现 SPM的测量误差的自动修正奠定基础  相似文献   

19.
文章采用磁控溅射的方法在n型硅基底上制备了CoN和SiN薄膜,再用薄膜测厚仪和四探针测试仪(EPP)测出样品的厚度及方块电阻,得到制备CoN和SiN薄膜的优化条件,然后由CoN和SiN薄膜制备出CoSiN薄膜.  相似文献   

20.
基于原子 -腔模拉曼相互作用 ,提出了制备纠缠原子态的方案 .用这种方法 ,能够制备原子Bell态和多原子GHZ态 .此外 ,还能够制备纠缠相干态 .值得注意的是利用这种技术 ,我们能够完成量子态的隐形传送 .比如Bell类型的、纠缠原子态的和纠缠相干态的隐形传送 .最后 ,我们讨论了实验的可行性方案  相似文献   

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