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相似文献
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1.
本文针对III族氮化物纳米材料,梳理了其各种制备技术,分析比较了各种制备方法的反应原理、反应条件及获得的产物特性等等,这些制备方法包括液相法、化学气相沉积法、分子束外延法及其他制备方法。此外,本文还进一步分析了III族氮化物纳米材料制备技术的相关专利保护现状,通过对近3年的该技术领域的专利申请情况分析,发现Al N材料多数和基片、陶瓷、薄膜等有关,Ga N材料中专利申请多是二极管、LED、薄膜有关,而In N材料专利申请中,薄膜占了绝大部分。  相似文献   

2.
采用热阴极直流辉光等离子体CVD技术制备了掺硼金刚石膜电极(BDD),利用扫描电子显微镜,激光拉曼光谱仪对电极进行了表征,通过循环伏安法和苯酚降解实验证明所制备的BDD电极具有优良的电催化性能。  相似文献   

3.
陈广华 《科技风》2015,(4):64-65
为达到倒立摆的稳定控制,在建立倒立摆状态反馈系统数学模型的基础上,应用状态反馈控制配置系统极点设计倒立摆系统的控制器,从而实现其状态反馈。基于此,利用MATLAB软件对倒立摆的运动进行计算机仿真,仿真结果表明,所设计的方法可使系统稳定工作并具有良好的动静态性能。  相似文献   

4.
以金属/陶瓷梯度涂层为例,用解析法获得了梯度涂层在制备过程中的热应力分布,借助小种群遗传算法,以梯度涂层各中间梯度层的组分和厚度作为优化设计变量,在满足隔热性能的条件下对梯度涂层进行优化设计,得到了相应的优化结果,为梯度材料热应力缓和优化设计提供指导。  相似文献   

5.
硬质Ti N薄膜在力学性能、耐腐蚀性能等诸多方面存在优势,是常用的合金表面改性材料之一。但是,长期使用过程中薄膜容易与基体脱离,关注并提高薄膜与基体之间的结合强度具有重要的现实意义。  相似文献   

6.
等离子喷涂生物活性硅灰石涂层研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
采用等离子喷涂技术,将硅灰石陶瓷沉积于钛合金基体表面,制备了硅灰石涂层,对涂层的工艺、结构和性能作了研究.在此基础上,又制备了硅灰石/TiO2复合涂层、硅灰石/ZrO2复合涂层和硅酸二钙涂层,并研究了它们的结构和性能.研究结果证实等离子喷涂硅灰石涂层、硅酸二钙涂层以及W7T3、W3Z7、W7Z3三种复合涂层都具有良好的生物活性又与钛合金基体有较高的结合强度,是较有应用前途的骨替换候选材料.  相似文献   

7.
1 现代金属切削对刀具的要求 现代化的金属切削加工,对刀具的要求是高切削速度、高进给速度、高可靠性、长寿命、高精度和良好的切削控制性.涂层刀具的出现,使刀具切削性能有了重大突破,它将刀具基体与硬质薄膜表层相结合,由于基体保持了良好的韧性和较高的强度,硬质薄膜表层又具有高耐磨性和低摩擦系数,从而使刀具的性能大大提高.  相似文献   

8.
采用电弧源技术制备氧化钽薄膜,在氧气环境下对其进行热处理工艺,对比热处理前后样品特性的改变。结果显示,500℃热处理后,膜层化学计量比改变,氧元素增加,透过光谱略微漂移,膜层折射率出现不同变化,表面粗糙度略微增加,均源于热处理工艺中膜层内部粒子迁移和表面氧元素注入所致。  相似文献   

9.
采用6FDA、6FHP、ODA共聚物材料,对材料的化学和光学性能进行了表征。用旋涂法获得了较高质量的共聚物薄膜,并对薄膜的性能进行了探讨。在此基础上采用先进工艺技术将该薄膜制备成条波导,测试结果表明该波导在光通信波段1550nm处的平均传输损耗小于0.66dB/cm,局部损耗在0.2dB/cm。  相似文献   

10.
目前,中科院长春应化所在热障涂层的设计思路、失效机理以及新型热障涂层材料研发等方面取得重要进展,设计并成功制备出使用温度≥1250℃的双陶瓷层热障涂层材料,“热障涂层的设计和失效机理研究”成果荣获2013年吉林省自然科学奖一等奖。  相似文献   

11.
利用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,采用三甲基镓(TMGa)和氮气(N2)作为实验反应源,改变不同的沉积温度,在自支持金刚石衬底上沉积制备了高择优取向的GaN薄膜。利用高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)等测试方式,研究了沉积温度的变化对GaN薄膜的结晶性和表面形貌的影响。  相似文献   

12.
以SnCl4·5H2O、NiCl2·6H2O、氨水等为原料,控制反应溶液的pH值、反应物浓度、反应温度、掺杂比例等条件,采用化学沉淀法制备出SnO2纳米粒子,通过对其进行XRD、SEM、气敏性能的测试分析可知:用化学沉淀法获得的SnO2粒子粒径约为60nm,粒子呈球形,且分散性好,掺镍的SnO2薄膜对还原性气体H2有较高的灵敏度。  相似文献   

13.
纳米材料的广泛研究为纳米结构薄膜材料的开发和研究提供了坚实的基础.目前,利用自组装的方法制备类似生物材料的有序纳米结构,技术也已经较为成熟.本文采用聚乙二醇(PEG)作为有机添加剂,通过控制PEG的量,可以制备出更小尺寸和形状的二氧化钛薄膜纳米颗粒膜.  相似文献   

14.
在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用。本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶硅生产中氯硅烷制备工序,采用介质阻挡放电(DBD)附加催化剂,结果表明:在频率100kHz、5kV电压激励下,H2/STC摩尔比10∶1,反应气以5.0L/min流经反应器,STC一次转换效率达到5.32%,在此基础上,提出低温等离子体在多晶硅行业的应用前景。  相似文献   

15.
成果简介:一种制备氮、铋共掺杂TiO2薄膜的方法,本发明利用溶胶-凝胶法制备氮、铋共掺杂TiO2溶胶,再采用浸渍提拉法在基片上制得一定厚度的预制膜,预制膜在一定温度焙烧后得到氮、铋共掺杂TiO2薄膜。本发明具有工艺独特、操作方便,掺杂元素易控制,性能可调控的特点。通过掺杂金属三价离子铋和非金属负三价元素氮,掺杂  相似文献   

16.
稀磁半导体的研究对于自旋电子学器件的研发与应用具有极其重要的意义。宽带隙ZnO基稀磁半导体因其具有独特的光电性能而备受青睐,尤其是在Ditle等人预言p型ZnO基稀磁半导体具有室温铁磁性之后,从而引起了人们的关注。虽然许多科研人员在ZnO基稀磁半导体材料的研究方面取得了丰硕的成果,但迄今为止所报导的结果大相径庭,仍然还有很多问题存在争议,尤其在磁性方面。常规的稀磁半导体制备方法,如磁控溅射和脉冲激光沉积技术等,均需要很高的生长温度,高生长温度容易催生颗粒在薄膜中的形成,但其低温下制备也难以保证薄膜的质量。运用等离子体增强化学气相沉积法制备稀磁半导体薄膜,具有无法比拟的优越性,对稀磁半导体的研究具有非常重要的学术意义和实用价值。  相似文献   

17.
我国第一台激光分子束外延设备研制成功   总被引:2,自引:0,他引:2  
激光分子束外延是近几年才出现的一种新型高精密制膜技术,它集普通脉冲激光沉积(PLD)的特点和传统分子束外延(MBE)的超高真空精确控制原子尺度外延生长的原位实时监控为一体,不仅可以生长通常的半导体超晶格材料,尤其适于制备多元素、高熔点、复杂层状结构,如超导体、光学晶体、铁电体、压电体、铁磁体以及有机高分子材料等薄膜,同时还能进行其相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。因此,激光分子束外延具有重要的学术意义和广泛的应用前景。  相似文献   

18.
半导体材料由于其优异的特性,近年来成为了材料科学与物理、化学、生物、电子信息技术等交叉学科研究的热点。本文研究了在生物衬底上制备半导体氧化物薄膜材料的工艺与技术,实现了低温下生物衬底上氧化物半导体薄膜材料的制备与研究。  相似文献   

19.
金刚石工具为了提高在使用过程中的耐磨性,通常在结合剂中要加入各种耐磨的高熔点成分,如何合理地选用它们,既得到金刚石工具的使用效果又能合理搭配、减少产品成本,是在金刚石工具制造胁需研究的问题。本文采用热压工艺,研究了在结合剂中添加WC/W/Fe/SiC等四种硬质高熔成分,利用真空热压方法,在种类与数量的变化时探讨了他们对金刚石工具的力学性能的作用。实验结果表明:同系统中不同硬质材料对胎体性能的影响程度明显不同,而随系统的变化硬质材料的上述表现规律也存在显著的不同,WC对结合剂硬度和强度的作用效果明显优于其它高熔点成分。  相似文献   

20.
本文综述了类金刚石薄膜材料常用的制备工艺及其相应结构和摩擦学性能。针对该薄膜材料在应用过程中存在的热稳定性差及内应力较大两方面问题,阐述了目前应用较为广泛的解决工艺。结合DLC薄膜优异的摩擦学性能展望了其在空间固体润滑技术领域以及新能源领域广泛的应用前景。  相似文献   

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