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采用直流磁控溅射的方法 ,制备了一系列不同厚度的纯铁膜 ,并测量了它们的阻温 (R -T)特性。研究表明 ,样品的R -T特性与镀膜时间 ,即膜的厚度有关。在同一系列中 ,随样品厚度的增加 ,R -T关系呈现出由半导体特性向金属性渡越的特征  相似文献   
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