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电子束光刻亚微米矩形阵列的坡莫合金薄膜铁磁共振谱的研究
引用本文:张雪云,石林,翟亚,施靖.电子束光刻亚微米矩形阵列的坡莫合金薄膜铁磁共振谱的研究[J].东南大学学报,2002,18(2).
作者姓名:张雪云  石林  翟亚  施靖
作者单位:东南大学物理系,东南大学物理系,东南大学物理系,犹他大学物理系 南京210096,南京210096,南京210096,盐湖城,美国
基金项目:TheprojectsupportedbytheNationalNaturalScienceFoundationofChina (5 0 1710 2 0 )
摘    要:报告了对电子束刻蚀的亚微米矩形阵列坡莫合金NiFe薄膜系统的铁磁共振 (FMR)研究及对矩形阵列不均匀退磁场和铁磁共振谱进行的理论拟合 .计算出样品的有效磁化强度M ,回旋磁比γ以及兰德因子g等参数 ,并且得出了共振场与所加磁场方位关系的理论曲线 .结果与实验曲线一致 .研究证明矩形单元导致了单轴平面磁各向异性 .本文还发现了在外磁场加在垂直于膜面的方向时 ,在主共振峰的低场侧出现了一系列规则的卫星峰 ,并对这一系列的子峰出现可能的机制进行了探讨

关 键 词:铁磁共振  坡莫合金薄膜  亚微米阵列

Ferromagnetic Resonance Study on the Permalloy Submicron Rectangular Arrays Prepared by Electron Beam Lithography
Zhang Xueyun,Shi Lin,Zhai Ya,Shi Jing.Ferromagnetic Resonance Study on the Permalloy Submicron Rectangular Arrays Prepared by Electron Beam Lithography[J].Journal of Southeast University(English Edition),2002,18(2).
Authors:Zhang Xueyun  Shi Lin  Zhai Ya  Shi Jing
Abstract:
Keywords:ferromagnetic resonance  permalloy film  submicron arrays
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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