| ITO靶材的制备应用及发展趋势 |
| |
| 引用本文： | 肖佳,征卫星.ITO靶材的制备应用及发展趋势[J].湖南科技学院学报,2007,28(12):47-48. |
| |
| 作者姓名： | 肖佳 征卫星 |
| |
| 作者单位： | 宁夏东方钽业股份有限公司,宁夏,石嘴山,753000 |
| |
| 摘 要： | 随着电子工业的飞速发展，高性能、大尺寸的氧化铟锡（ITO）靶材需求量与日俱增。本文概述了ITO靶材的制造技术和应用，并对目前国内外ITO靶材现状和发展进行了一定的分析和研究。
|
| 关 键 词： | ITO靶材 透明导电膜 常压烧结法 |
| 文章编号： | 1673-2219(2007)12-0047-02 |
| 修稿时间： | 2007年9月10日 |
The Manufacture Application and Developing Trend of ITO Target |
| |
| XIAO Jia,ZHENG Wei-xing.The Manufacture Application and Developing Trend of ITO Target[J].Journal of Hunan University of Science and Engineering,2007,28(12):47-48. |
| |
| Authors: | XIAO Jia ZHENG Wei-xing |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
