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| 冶金级多晶硅的除硼专利技术综述 | |
| 引用本文： | 刘丹,张耀文,王智华.冶金级多晶硅的除硼专利技术综述[J].中国科技信息,2019(5). |
| 作者姓名： | 刘丹 张耀文 王智华 |
| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心 |
| 摘 要： | 多晶硅是制备太阳能电池的重要原料,硼是多晶硅中最难除去的杂质,物理法提纯多晶硅具有成本低、易工业生产等优点。本文分析了多晶硅除硼制备高纯硅的全球和在华专利的申请量趋势、申请国别分析,梳理了该领域的技术发展、国内外重点申请人、申请人的进入退出趋势、核心专利和技术演进路线,并结合具体案例介绍了利用专利技术综述提高审查效率的实践应用。 |
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