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非对称性隧穿势垒的单电子器件的存储特性电路模拟
引用本文:周少华,赵光强,杨红官.非对称性隧穿势垒的单电子器件的存储特性电路模拟[J].中国科技信息,2005,2(19):97.
作者姓名:周少华  赵光强  杨红官
作者单位:1. 湖南大学应用物理系;永州职业技术学院
2. 永州职业技术学院;湖南工程学院
3. 湖南大学应用物理系
摘    要:本文介绍了非对称性势垒单电子管(ATBs)的电路模拟和特性,以及采用准经典的MonteCarlo方法对Ge/Si复合纳米结构量子点MOSFET内存的电路模拟,得出由于台阶状复合势垒的作用,在擦写时间保持μs和ms量级的同时,存储时间可长达数年。从而解决了快速编程与长久存储之间的矛盾。

关 键 词:非对称势垒  复合纳米结构  单电子器件  电路模拟
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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