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| 化学机械抛光之抛光垫表面沟槽形状的研究与分析 | |
| 引用本文： | 李春宇.化学机械抛光之抛光垫表面沟槽形状的研究与分析[J].中国科技纵横,2014(19):61-61. |
| 作者姓名： | 李春宇 |
| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作河南中心,河南郑州450000 |
| 摘 要： | 在化学机械抛光过程中，抛光垫表面沟槽形状是决定抛光垫性能的重要影响因素之一，它会直接影响抛光效果。在分析几种常规抛光垫表面沟槽结构形状的特性的基础上，介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展，分析了几种新型抛光垫表面沟槽对抛光效果的影响，为化学机械抛光用的抛光垫表面沟槽特性的深入研究与分析提供参考。 |
| 关 键 词： | 化学机械抛光 抛光垫 表面沟槽 |
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