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| 载玻片为基底制备钛薄膜的研究 | |
| 作者单位： | ;1.赣南师范大学物理与电子信息学院;2.同济大学上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室 |
| 摘 要： | 采用磁控溅射法，以普通载玻片为基底，制备了不同厚度的金属钛薄膜，在添加光栅掩模版后，制备了钛薄膜光栅。采用控制变量法，重点研究了不同溅射时间(10 min、15 min、20 min、30 min、40 min、50 min)对金属钛薄膜厚度、透过率、电阻率的影响，并测量了所制备的钛薄膜光栅的光栅常数。结果表明，增加溅射时间，在载玻片表面制备的金属钛薄膜的厚度也呈现出增加的趋势。但金属钛薄膜的透过率和电阻率却呈现现相反的趋势，即随着溅射时间的增加而减小；采用分光光度计测量薄膜光栅的光栅常数为0.168 mm. |
| 关 键 词： | 磁控溅射法 金属Ti薄膜 溅射时间 透射率 电阻率 薄膜光栅 |
Study on the Titanium Thin Films Using Glass Slide as Substrate |
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| Keywords: | |