浅析制药设备清洁验证 |
| |
引用本文: | 杨武胜,马春香.浅析制药设备清洁验证[J].黑龙江科技信息,2012(6):3. |
| |
作者姓名: | 杨武胜 马春香 |
| |
作者单位: | 哈药集团制药总厂,黑龙江哈尔滨,150086 |
| |
摘 要: | 药品在生产过程中会在设备上形成残留,设备的清洁是用一种或一套清洗方法去除设备上可见及不可见的残留物,并达到可接受的残留限度,防止污染和交叉污染。清洁验证是采用化学试验等手段证明清洁规程的科学性、有效性、可控性,同时在验证结束后应按验证中设定的分析方法定期进行监控,以保证日常生产中规程的有效性。
|
关 键 词: | 清洁验证 验证方案 清洁规程 清洗方法 交叉污染 防止污染 |
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录! |
|