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| 半导体光催化剂光腐蚀的机理及抑制策略 | |
| 引用本文： | 罗志珊,方圆梦,黄建辉.半导体光催化剂光腐蚀的机理及抑制策略[J].莆田学院学报,2023(2):1-10. |
| 作者姓名： | 罗志珊 方圆梦 黄建辉 |
| 作者单位： | 1. 福建省新型污染物生态毒理效应与控制重点实验室;2. 福建省高校生态环境及其信息图谱重点实验室;3. 莆田学院环境与生物工程学院;4. 福州大学能源与环境光催化国家重点实验室;5. 福州大学环境与安全工程学院 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金青年科学基金项目(22102030)；;福建省自然科学基金资助项目(2022J011165)； |
| 摘 要： | 综述了半导体光催化剂发生光腐蚀的机理，并总结了抑制光腐蚀的策略，包括调控半导体光催化剂的晶粒大小、形貌结构、结晶度等物理性质，以及掺杂杂原子、构建异质结结构、半导体复合、与碳基材料耦合、调节反应条件等方面，旨在深入揭示光腐蚀的发生途径和作用原理，为有效解决半导体光催化剂的光腐蚀问题提供指导意见。最后，总结和展望未来光催化剂光腐蚀的抑制策略。 |
| 关 键 词： | 半导体 光催化剂 光腐蚀 光腐蚀机理 抗光腐蚀 |