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新型窄带隙半导体BiVO_4的制备与性能表征
引用本文:傅梦笔,唐培松,曹枫,余丹凤,黄重金.新型窄带隙半导体BiVO_4的制备与性能表征[J].湖州师范学院学报,2009,31(1).
作者姓名:傅梦笔  唐培松  曹枫  余丹凤  黄重金
作者单位:湖州师范学院生命科学学院,浙江湖州,313000
基金项目:浙江省新苗人才计划基金,湖州市自然科学基金 
摘    要:为了获得新型的窄带隙半导体可见光催化剂.以Bi(NO3)3、NH4VO3、NH3·H2O、NaOH和HNO3为原料,采用水热法在200℃温度条件下制备了BiVO4样品.采用X射线衍射光谱XRD和漫反射吸收谱DRS对Bi-VO4的物性进行了表征,并以偶氮染料甲基橙作为模拟污水研究了BiVO4的光催化性能.结果表明.BiVO4样品是单斜晶系,带隙为2.5eV的半导体.具有良好的可见光催化活性,是一类具有广泛应用前景的新型窄带隙半导体光催化剂.

关 键 词:窄带隙半导体  光催化

The Preparation and Characteristics of the New Narrow Band-gap Semiconductor BiVO_4
FU Meng-bi,TANG Pei-song,CAO Feng,YU Dan-feng,HUANG Zhong-jin.The Preparation and Characteristics of the New Narrow Band-gap Semiconductor BiVO_4[J].Journal of Huzhou Teachers College,2009,31(1).
Authors:FU Meng-bi  TANG Pei-song  CAO Feng  YU Dan-feng  HUANG Zhong-jin
Institution:Faculty of Life Science;Huzhou Teachers College;Huzhou 313000;China
Abstract:
Keywords:BiVO4
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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