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| 辉光离子渗钼工艺研究 | |
| 引用本文： | 陈平,赵晓峰.辉光离子渗钼工艺研究[J].内蒙古科技与经济,1998(6). |
| 作者姓名： | 陈平 赵晓峰 |
| 作者单位： | 内蒙古工业大学电力学院(陈平)，内蒙古电机总厂(赵晓峰) |
| 摘 要： | 辉光离子渗金属是近来人们一直在探索的一门新型工艺。本文在反复进行了大量的辉光离子渗钼的基础上，总结得出一些工艺规律。经分析得出①，辉光离子渗金属可以在对离子辉光氮化设备稍加改进中进行，渗金属的工艺是成功的，它的稳定性强，重复性好，速度快，合金元素的利用率高。而且，在阴—阳极间距不变，其它参数相同的条件下，阴—栅极间距在８ｍｍ左右时，渗层质量最好，渗层最厚。 |
| 关 键 词： | 辉光 离子渗钼 工艺研究 |
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