| 问题专利、发明高度与研发投资——一个专利质量内生化模型 |
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| 引用本文： | 董亮,方中秀.问题专利、发明高度与研发投资——一个专利质量内生化模型[J].科研管理,2019,40(4):179-189. |
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| 作者姓名： | 董亮 方中秀 |
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| 作者单位： | 桂林电子科技大学商学院,广西 桂林,541004;华中师范大学经济与工商管理学院,湖北 武汉,430079 |
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| 基金项目： | 国家社科基金项目（15CJY001）。 |
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| 摘 要： | “问题专利”是专利系统面临的最严重的问题之一。本文通过假设发明高度与研发投资存在正向关联关系,在专利质量和研发投资之间建立起联系,实现了专利质量的内生化。然后通过一个双寡头博弈模型,分析了不同局面下创新厂商的研发投资和专利许可行为以及非创新厂商的策略选择,进而对专利质量进行了分析和对比。结果表明,专利质量受确定性发明高度和研发效率的影响,市场结构与专利质量之间不存在单调一致的关联。法庭对专利侵权赔偿金额的设置很大程度上影响了潜在侵权者的行为,进而决定了市场结构。当显著性创新非常困难时,“问题专利”才能使社会福利达到最优。
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| 关 键 词： | 问题专利 发明高度 研发投资 专利质量内生化 |
| 收稿时间： | 2017-03-10 |
| 修稿时间： | 2017-08-20 |
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