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| γ-Mo_2N的合成及其HDS和HYD性能研究 | |
| 引用本文： | 周振华,邓存,张耀军,魏昭彬,辛勤.γ-Mo_2N的合成及其HDS和HYD性能研究[J].宁德师专学报(自然科学版),1997(2). |
| 作者姓名： | 周振华 邓存 张耀军 魏昭彬 辛勤 |
| 作者单位： | 宁德师范高等专科学校化学系，中科院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室 |
| 摘 要： | 在较温和条件下ＭｏＯ３与ＮＨ３通过局部规整反应合成不同表面积γ－Ｍｏ２Ｎ．通过合成条件探讨，发现ＭｏＯ３颗粒大小、ＮＨ３的空速以及床层加热速率是决定能否获得大表面积γ－Ｍｏ２Ｎ的关键，且随着γ－Ｍｏ２Ｎ表面积增加，其范围在２～３ｎｍ之间的孔径逐渐增加．γ－Ｍｏ２Ｎ的Ｈ２－ＴＰＤ表征表明存在两个Ｈ２脱附峰：一个为γ－Ｍｏ２Ｎ表面吸附，一个为其次表层及体相吸附．噻吩的ＨＤＳ及环已烯的ＨＹＤ活性被测试，结果表明，高表面γ－Ｍｏ２Ｎ的ＨＤＳ，ＨＹＤ性能优于中、低表面γ－Ｍｏ２Ｎ． |
| 关 键 词： | γ－Mo_2N，合成，TPD，HDS，HYD |
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