| 金属薄膜电阻率测量中界面势垒对电压的影响 |
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| 引用本文： | 张真.金属薄膜电阻率测量中界面势垒对电压的影响[J].邯郸职业技术学院学报,2007,20(2):52-54. |
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| 作者姓名： | 张真 |
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| 作者单位： | 北京科技大学,应用物理系,北京,100083 |
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| 摘 要： | 在金属薄膜电阻率测量中,电压的准确测量非常重要。系统的研究了影响电压测量结果的各种误差因素,并分析了界面势垒、温差电势对测量结果的具体影响方式,推翻了认为界面势垒、温差电势非常小对测量结果没什么影响的观点。通过磁控溅射法制作了多个Au膜和Cu膜,利用四探针法对其进行了电学测量。实验结果很好地验证了理论分析。
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| 关 键 词： | 四探针法 接触电势 磁控溅射 薄膜 |
| 文章编号： | 1009-5462（2007）02-0052-03 |
| 收稿时间： | 2007-03-22 |
| 修稿时间： | 2007年3月22日 |
The Influence of Interface Potential Barrier on Voltage in Measurement of Metallic Films Electrical Esistivity |
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| Zhang Zhen.The Influence of Interface Potential Barrier on Voltage in Measurement of Metallic Films Electrical Esistivity[J].Journal of Handan Vocational and Technical College,2007,20(2):52-54. |
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| Authors: | Zhang Zhen |
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