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纳秒脉冲激光辐照非晶硅薄膜的研究
引用本文:袁珂,郝会颖,郑志远,黄强,张鸿儒.纳秒脉冲激光辐照非晶硅薄膜的研究[J].中国科技信息,2008(20).
作者姓名:袁珂  郝会颖  郑志远  黄强  张鸿儒
作者单位:1. 中国地质大学材料科学与工程学院,北京,100083
2. 中国地质大学信息工程学院,北京,100083
摘    要:采用Nd:YAG纳秒脉冲激光.在不同能量下对沉积在石英衬底上的非晶硅薄膜进行辐照.光学显微镜,透射电镜、微区喇曼光谱分析表明,在能量50-60mJ/cm2辐照下,可制备出具有周期性排列的条纹结构,能量过大会使薄膜受损,激光辐照后薄膜组织的有序度提高.

关 键 词:纳秒激光  硅薄膜  喇曼光谱

Study on the Amorphous Silicon Thin Films Irradiated by Nanosecond Pulse Laser
Yuan Ke,Hao Huiying,Zheng Zhiyuan,Huang Qiang,Zhang Hongru.Study on the Amorphous Silicon Thin Films Irradiated by Nanosecond Pulse Laser[J].CHINA SCIENCE AND TECHNOLOGY INFORMATION,2008(20).
Authors:Yuan Ke  Hao Huiying  Zheng Zhiyuan  Huang Qiang  Zhang Hongru
Abstract:
Keywords:
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