|
|||||
|
|
| 硅活性构型的研究 | |
| 引用本文： | 余敏,常森,潘方珍.硅活性构型的研究[J].科技通报,2020,36(4):22-27. |
| 作者姓名： | 余敏 常森 潘方珍 |
| 作者单位： | 浙江省地质矿产研究所,杭州310007;国土资源部粘土矿物重点实验室,杭州310007;浙江省冶金研究院,杭州3100011 |
| 基金项目： | 浙江省公益技术应用研究(分析测试)基金项目 |
| 摘 要： | 从硅晶面角度,对面间距、面密度和键密度性能进行研究,发现通过暴露面密度最大面,可提升制粉后硅反应活性。决定硅反应活性的主要因素是原子态势;不同处理方法得到的硅粉活性不同,强弱顺序为:对撞—冲旋—研磨。以磨粉达到生产指标为基准,改用相对活性较好的冲旋粉,可使氯化氢耗量增加,生产出更多三氯氢硅中间体。 |
| 关 键 词： | 构型 硅粉活性 微观结构 原子态势 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |