工艺参数对Ti、NdFeB薄膜厚度的影响 |
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引用本文: | 周志华,傅明喜.工艺参数对Ti、NdFeB薄膜厚度的影响[J].中国科技信息,2012(19):44-45. |
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作者姓名: | 周志华 傅明喜 |
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作者单位: | 江苏联合职业技术学院无锡交通分院,江苏无锡,214151 |
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基金项目: | 中国民用航空飞行学院青年基金项目:卫星数据产品在强对流天气预报中的应用(Q2010109) |
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摘 要: | 本文采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜厚度的影响,这些工艺参数是溅射类型、溅射时间、基靶距。
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关 键 词: | 薄膜 厚度 溅射时间 基靶距 |
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