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| 钼表面（Mo,W）Si2-Si3N4复合涂层的低温氧化行为研究 | |
| 引用本文： | 张厚安,吴艺辉,古思勇,林佳,庄树新.钼表面（Mo,W）Si2-Si3N4复合涂层的低温氧化行为研究[J].鹭江职业大学学报,2013(3):1-4. |
| 作者姓名： | 张厚安 吴艺辉 古思勇 林佳 庄树新 |
| 作者单位： | 厦门理工学院材料科学与工程学院,福建厦门361024 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（51071133,51371155） |
| 摘 要： | 采用包渗法在钼表面原位制备了（Mo,W）Si2-Si3N4复合涂层,考察了其在大气中于500℃和600℃等温循环的氧化性能,利用XRD和SEM等研究了其组织形貌.结果表明：（Mo,W） Si2-Si3N4涂层具有良好的低温抗氧化性,其在空气中500℃和600℃氧化480 h的氧化速率分别为0.0145 g/（m2·h）和0.0191g/ （m2·h）,归因于涂层氧化表面形成了致密的SiO2膜. |
| 关 键 词： | （Mo W）Si2-Si3N4涂层 钼 低温氧化 |
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