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| 《热处理过程对KTN薄膜结构和形貌的影响》 | |
| 引用本文： | 王龙海,王世敏,黄桂玉.《热处理过程对KTN薄膜结构和形貌的影响》[J].十堰职业技术学院学报,2001,14(2):44. |
| 作者姓名： | 王龙海 王世敏 黄桂玉 |
| 摘 要： | 原载《功能材料与器件学报》2000年第1期,并被CA收录.
KTN是一种高性能的电光、热释电材料,是制造各种电光、热释电、非线性电子器件的首选材料.本文用XRD、SEM等分析手段,对Sol-Gel法制备的Gel膜在不同热处理条件下处理后的KTN薄膜进行分析.发现热处理的气氛、升降温速率、烧结温度对薄膜的结构和形貌影响很大,并对其影响进行了详细的分析讨论.在合适的热处理条件下、在SrTiO3(100,111)衬底上制备出了高取向、晶粒大小均匀、排列紧密、纯钙钛矿结构的KTN薄膜. |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |