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结构层淀积是MEMS加工过程中的重要工艺步骤,淀积薄膜的应力梯度是影响MEMS器件性能的一个重要的力学参数．文中介绍了几种常见的平均应力梯度在线测量方法,阐明了其测试结构及测量原理,并对这些测量方法进行了比较． 相似文献
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氧化石墨烯具有的层状单原子以及一个庞大的二维结构,能够连接各种有机、生物分子进行化学修饰,并且促进了在生物体系的实际应用.氧化石墨烯优于其他碳纳米材料,是因为它所拥有的平面结构以及π共轭体系.本文通过π-π堆积作用设计合成了一种氧化石墨烯-金属钯的大环化合物的复合物,并分别对氧化石墨烯、金属钯的大环化合物、氧化石墨烯-金属钯的大环化合物的复合物进行了红外光谱表征以及利用紫外光谱的变化情况进一步说明氧化石墨烯和金属钯的大环化合物是能够复合到一起的. 相似文献
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金属有机化学是有机化学的主流之一,它的发展与其它化学交织在一起,打破了传统有机化学和无机化学的界限,使有机化学和无机化学汇合在一起。什么是金属有机化合物？凡是化合物中含有碳—金属键的都是金属有机化合物。金属有机化合物的发现很早,它的发展主要是从主族元... 相似文献
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相干光多层膜系的递推法 总被引：2，自引：0，他引：2
张援 《重庆第二师范学院学报》2003,16(6):24-25
多层薄膜现已被广泛应用，薄膜的光学特性以其反射率和透射率表征．实际所需任何反射率和透射率的光学表面都可以借助镀薄膜的手段获得，这些薄膜通常以高真空蒸发不同介质的方式使其淀积于玻璃或金属基体上．本就入射光为相干光的情况对多层膜系反射率、透射率分别进行计算，得到任意膜系的递推公式，该公式对解决相干光的薄膜问题及其计算具有一定的指导作用． 相似文献
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《赣南师范学院学报》2019,(6):58-61
硅基深槽刻蚀是槽栅IGBT器件的基本结构,也是确保器件性能的关键工艺,氮化硅硬掩蔽膜质量对于硅基深槽刻蚀起着重要的作用.本文采用低压化学气相淀积(LPCVD)工艺淀积氮化硅薄膜,具有均匀性好,而且呈现较大的张应力,可以补偿二氧化硅缓冲层的压应力,有效地解决了硅-二氧化硅-氮化硅夹心结构的应力问题.分析比较了工艺参数,如气体流量、淀积环境的压强、温度等,对氮化硅薄膜生长速率及膜厚的影响,获得了氮化硅薄膜淀积的优化工艺参数. 相似文献
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金属有机化学是一门前沿学科。本文简述了金属有机化学在我国的进展,并介绍了金属有机化合物在工业、农业、环境卫生、医药等日常生活方面的应用,以及金属有机导体和半导体材料的应用。 相似文献
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董艳 《中国石油大学胜利学院学报》2004,18(4):76-77
金属有机化学是一门前沿学科,是研究含有碳-金属键的化学,它是化学的一个分支学科,自20世纪60年代以来有了蓬勃的发展.它的发展打破了传统的有机化学和无机化学的界限,又与理论化学、合成化学、催化、结构化学、生物无机化学、高分子科学等交织在一起,成为近代化学前沿领域之一.过渡金属有机催化剂或试剂提供了众多的高活性和高选择性的有机合成方法,使有机合成技术提高到崭新的水平.金属有机化合物在医药、农业、工业等领域有广泛的应用. 相似文献
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MOCVD法生长ZnO纳米管及光学性能评价 总被引：2，自引：0，他引：2
刘成有 《通化师范学院学报》2007,28(4):1-2,5
利用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方法在Al2O3(1 1 2 0)衬底上生长高质量的ZnO薄膜,在衬底温度450℃及生长舱压力40 Pa的条件下,我们得到了ZnO纳米管.利用X射线衍射(XRD)对样品的结构进行了分析,利用光致发光(PL)对样品的光学性能进行了评价. 相似文献
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董艳 《胜利油田师范专科学校学报》2004,18(4):76-77,92
金属有机化学是一门前沿学科，是研究含有碳一金属键的化学，它是化学的一个分支学科，自20世纪60年代以来有了蓬勃的发展。它的发展打破了传统的有机化学和无机化学的界限，又与理论化学、合成化学、催化、结构化学、生物无机化学、高分子科学等交织在一起，成为近代化学前沿领域之一。过渡金属有机催化剂或试剂提供了众多的高活性和高选择性的有机合成方法，使有机合成技术提高到崭新的水平。金属有机化合物在医药、农业、工业等领域有广泛的应用。 相似文献
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利用PLD方法,在倾斜LaAIO,单晶衬底上镀制了'LaCaSrMnO3薄膜.对该薄膜进行了LITV信号测量,表明其LITV信号上升沿和脉冲宽度都比LCMO薄膜小,可以用来制作更快响应的光探测器件;对该薄膜进行了R-T关系测量,其金属-绝缘体转变点为313K. 相似文献
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Nano-particles lanthanum-modified lead titanate (PLT) thin films are grown on Pt/Ti/SiO2/Si substrate by liquid source misted chemical deposition (LSMCD). PLT films are deposited for 4-8 times, and thenannealed at various temperature. XRD and SEM show that the prepared films have good crystallization behavior and perovskite structure. The crystallite is about 60nm. The deposition speed is 3nm/min. This deposition method can exactly control stoichiometry ratios, doping concentration ratio and thickness of PLT thin films. The best annealing process is to bake at 300℃ for 10min and anneal at 600℃ for 1h. 相似文献
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实验利用飞秒脉冲激光沉积Cu纳米颗粒薄膜,获得不同激光能量时溅射Cu粒子空间分布结果,并结合Matlab、Excel和Origin等软件对这些数据进行处理分析。实验结果表明：Cu纳米颗粒的空间分布遵循Anisimov气体膨胀模型,大部分的粒子主要集中在基片与溅射源中心线附近在小立体角度（θ〈30°）范围扩散。最后,实验选取合适立体溅射角度（θ≈30°）,能量密度约为0．72J／cm2时,在不同曝光时间条件下溅射Cu纳米颗粒薄膜,并采用原子力显微镜（AFM）表征了膜厚变化情形,综合分析了纳米颗粒薄膜空间沉积成膜的过程和规律,为后继数值模拟分析提供了实验验证依据。 相似文献
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WANG Kun-ping GUO Jin-song YANG Min JUNJI Hirotsuji DENG Rong-sen LIU Wei 《重庆大学学报(英文版)》2008,7(3):171-178
We studied the decomposition of two haloacetic acids （HAAs）, dichloroacetic acid （DCAA） and trichloroacetic acid （TCAA）, in water by single oxidants ozone （O3） and ultraviolet radiation （UV） and the advanced oxidation processes （AOPs） constituted by the combinations of O3/UV, H2O2/UV, O3/H2O2, and O3/H2O2/UV. The concentrations of HAAs were analyzed at specified time intervals to track their decomposition. Except for O3 and UV, the four combined oxidation processes remarkably enhance the decomposition of DCAA and TCAA owing to the generated very reactive hydroxyl radicals. The fastest decomposition process is O3/H2O2/UV, closely followed by O3/UV. DCAA is much easier to decompose than＇ TCAA. The kinetics of HAA decomposition by O3/UV can be described well by a pseudo first-order reaction model under a constant initial dissolved O3 concentration and fixed UV radiation. Humic acids and HCO3 in the reaction system both decrease the decomposition rate constants for DCAA and TCAA. The amount of H2O2 accumulates in the presence of humic acids in the O3/UV process. 相似文献
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以二甲亚砜为溶剂,FeCl3·6H2O为氧化剂,通过相分离原位聚合法在醋酸纤维素（ca）基体中引发吡咯（Vy）单体发生化学氧化聚合,制备出均匀的聚吡咯／醋酸纤维素导电塑料薄膜。采用原子力显微镜（AFM）观察样品的表面形态,发现朝向玻璃的膜面（反面）由粒状结构的纤维素组成,而朝向溶液的膜面（正面）由簇状结构聚吡咯组成。同时考察了吡咯／FeCl3投料比、反应时间对样品电学性能的影响。结果表明：吡咯与三氯化铁的摩尔比为0．6,反应时间30min时,导电复合膜的表面电阻最低,大约为21．6Ω／cm。 相似文献
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Ju Jianhua Mo Yaowu Huang Xiaoqin Xia Yiben 《上海大学学报(英文版)》1998,2(4):337-341
ｏｎ ａｎｄ Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｆｉｌｍ ｉｎ ｔｈｅ Ｍｕｌｔｉｆｉｌａｍｅｎｔ ＣＶＤ ＳｙｓｔｅｍTX１ＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎＴｈｅｈｏｔ－ｆｉｌａｍｅｎｔｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＨＦＣ... 相似文献
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通过Raman光谱、紫外-可见透射光谱技术及原子力显微镜对非晶碳化硅薄膜结构和光学特性的热退火效应进行了研究。结果表明,碳化硅拉曼谱带随退火温度的增加而逐渐红移和尖锐化,显示了薄膜中晶化有序度的提高。退火后薄膜包含大量紧凑的纳米团簇,膜面相对于未退火样品较为粗糙。根据紫外-可见透射光谱导出的光学带隙从原始样品的1．86eV连续增加到经1050℃退火样品的2．23eV。碳化硅薄膜中纳米团簇的形成及其晶化程度的增加导致了薄膜光学带隙的蓝移效应。 相似文献
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以透明导电玻璃(TCO)为衬底,用硝酸锌水溶液作为电解液,采用阴极电沉积法合成了ZnO薄膜.通过改变电解液浓度、温度和沉积电压等实验条件,系统研究了锌氧化物薄膜材料的电化学沉积过程.用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见光谱法等技术对沉积物的形貌、结构及光学性质进行了表征.结果表明,通过控制电解液的浓度和温度及沉积电压等反应条件可以制备出不同形貌的ZnO薄膜.XRD结果表明,所得的ZnO纯度高且呈六方纤锌矿结构;光谱法研究表明,该薄膜在344 nm和552 nm处有两个吸收峰,禁带宽度为3.25 eV. 相似文献