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相似文献
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1.
简要叙述了近年来固体薄膜制备技术,运用新技术进行薄膜样品的制备及性能的比较,主要介绍了目前应用较普遍的几种方法:如脉冲激光沉积法(PLD)、化学气相沉积法(CVD)、溶胶—凝胶法(Sol-Gel)等。  相似文献   

2.
简述了非晶硅薄膜太阳能电池的基本原理和生产工艺,特别介绍了等离子化学气相沉积(PECVD)反应沉积室四种结构和特点,以及非晶硅薄膜电池生产设备的特点,以及未来发展方向.  相似文献   

3.
李洪 《科教文汇》2009,(18):275-275
Tio2薄膜材料由于具有其颜料特性极高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料,主要对Tio2薄膜的常用方法中的化学气相沉积法进行了论述。  相似文献   

4.
Tio2薄膜材料由于具有其颜料特性极高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料,主要对Tio2薄膜的常用方法中的化学气相沉积法进行了论述。  相似文献   

5.
利用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,采用三甲基镓(TMGa)和氮气(N2)作为实验反应源,改变不同的沉积温度,在自支持金刚石衬底上沉积制备了高择优取向的GaN薄膜。利用高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)等测试方式,研究了沉积温度的变化对GaN薄膜的结晶性和表面形貌的影响。  相似文献   

6.
近年来,碳纳米技术的研究越来越活跃。因其优异的电学、力学、热学和光学性能,受到了人们的广泛关注,并逐渐成为材料研究领域的研究热点之一。在众多的碳纳米材料中,石墨烯是主要的研究目标。本文中我们通过化学气相沉积的方法来制备石墨烯,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析仪等设备分析其形貌、结晶性。结果表明化学气相沉积方法制备碳纳米材料过程中温度是一个重要因素。  相似文献   

7.
以二茂铁为催化剂,硫为添加剂,采用化学气相沉积法合成双壁碳纳米管宏观薄膜和长丝。透射电镜照片显示催化剂的浓度对碳纳米管的纯度以及双壁碳纳米管的直径都有所影响。  相似文献   

8.
二氧化钛薄膜材料制备工艺研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
黄舒 《中国科技信息》2007,(17):68-68,70
TiO2薄膜材料由于其具有颜料特性及高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料,主要对制备TiO2薄膜的常用方法,如溶胶-凝胶法,溅射法,化学气相沉积法进行了综述,以及对TiO2薄膜的制备工艺的发展趋势进行了简述。  相似文献   

9.
随着电沉积技术的不断发展,其在纳米材料制备方面的应用逐渐成为人们关注的焦点。本文综述了用电沉积技术制备纳米晶材料的机理,着重介绍了脉冲电沉积法和喷射电沉积法的作用机理和优点,并电沉积纳米晶材料的应用前景进行了展望。  相似文献   

10.
采用直流热阴极化学气相沉积(DC-PACVD)方法,以NH3+CH4+H2混合气体作为气源,通过改变氨气浓度,在单晶硅基片上沉积金刚石膜。采用扫描电子显微镜和拉曼光谱仪分析了不同氨气浓度下制备的金刚石膜。结果表明:随着氨气浓度的增大,金刚石膜中晶粒的平均粒度减小,能实现纳米级别,在一定范围内氨气浓度增加,有助于提高金刚石膜生长结构的调节。  相似文献   

11.
主要介绍冷喷银涂层在高纯多晶硅低消耗生产技术中的应用,阐述多晶硅生产用西门子法钟罩式化学气相沉积反应器的能量损失和银涂层节能机理,分析冷喷银涂层对红外反射、反应器能量消耗及多晶硅生长的影响,总结冷喷银涂层在应用中存在的问题。以24对棒多晶硅化学气相沉积反应器为例,当其内壁含有冷喷银涂层时,与非喷涂反应器相比,可至少降低5%的能量消耗,最高增加11.2%的多晶硅产量。  相似文献   

12.
闫彬  梁丽娜 《科技风》2014,(17):119-119
本文以"柠檬酸法"制备的Mo1Fe10催化剂,以无水乙醇为碳源的化学气相沉积法(ACCVD)制备单壁碳纳米管(swcnts),实验采用温度和气流分布更为均匀,更易放大的流化床反应器。本实验考查了在相同的催化剂Mo1Fe10下,载气Ar气的流量为150ml/min,无水乙醇为碳源,不同温度下对制备单壁碳纳米管的影响。实验表明:在950℃时制备的单壁碳纳米管具有管径均匀,不定型碳含量少等特点。  相似文献   

13.
《科技风》2020,(13)
硅外延工艺化学气相沉积可以赋予材料表面一些特殊的性能,可用在刀具材料、航空材料、生物医用材料等领域,而且随着科学技术的发展,在制备合成等领域也得到了广泛应用。在这样的情况下,本文针对化学气相沉积技术进行研究,在简单了解基本原理后,详细分析该技术的具体应用内容,以供参考。  相似文献   

14.
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,探索性研究制备μc-Ge:H薄膜的基本沉积参数,通过一系列处理技术实现了高晶化率超薄μc-Ge:H薄膜的制备,有效拓展了太阳电池的光谱响应范围。  相似文献   

15.
技术市场     
《发明与创新》2013,(2):42-43
碳/碳复合材料平板的快速化学气相渗制备方法成果简介:碳/碳复合材料平板的快速化学气相渗备方法,包括下述步骤:(1)在化学气相渗碳炉中,垂直于底设置一平板发热体;(2)在平板发热体两侧各设置一固定台,在每一个承台上各设置一与发热体平面平行的待增密/碳复合材料平板状坯体,气流穿坯体而过;(3)以C3H6为源气、N2为稀释气,控制C3H6∶N2体积比为  相似文献   

16.
环境化学若干研究动向   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了大气、水体和土壤环境化学,着重提出跨介质(多介质)变化特点,动态过程的化学研究,如大气非均相化学、土壤(底质)环境界面化学、氮汞元素化学循环、污染控制化学和“绿色”化学、清洁工艺、污染点修复等,结合研究问题,还介绍了计算机技术在环境化学中的某些应用。  相似文献   

17.
模具表面强化技术应用现状及发展   总被引:1,自引:0,他引:1  
董定乾 《大众科技》2008,(11):136-137
表面强化技术是模具热处理的重要组成部分,决定着模具的使用寿命和模具质量优劣。文章从表面形变强化、激光相变硬化、TD处理、等离子化学热处理、离子注入、气相沉积、电火化表面等简单介绍目前研究较多、发展应用较快的几种表面强化新技术。  相似文献   

18.
本文从电子束物理气相沉积设备的组成、主要部件、真空度、冷却结构等四个方面八手,重点讨论了电子束物理气相沉积设备的工作原理,研究了电子枪、离子清洗装置、真空度等设计参数,提出了电子束物理气相沉积设备结构设计建议。  相似文献   

19.
本文采用化学气相沉积(CVD)方法,利用桶式外延炉,在4英寸100晶向,2×10-2Ω·cm重掺Sb衬底上,生长厚度50μm、电阻率1000Ω·cm的N/N+型硅外延片,作为高灵敏度光电探测器的衬底材料;实验中,利用SRP、FTIR等测试方法,对材料的电学参数、几何参数以及过渡区形貌进行了测试分析,通过纯化原料、增强吹扫、洁净腔体等手段提高了材料的电阻率,优化了过渡区形貌,从而改善了器件的反向漏电特性。  相似文献   

20.
通过介绍化学灌浆堵水技术的发展、特色及相关工艺,包括设备和材料,概述了化学灌浆堵水技术在矿山生产中的应用前景.  相似文献   

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