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以高熵合金(Al Cr Nb Si Ti V)为靶材,Ar为工作气体,N2为反应气体,利用反应式直流磁控溅镀在硅晶片和车削刀具上制备高熵合氮化薄膜,探讨不同溅镀沉积时间对(Al Cr Nb Si Ti V)氮化物薄膜表层微结构及机械性质的影响。沉积薄膜中所有元素的相对原子浓度与高熵合金靶材相当。氮化物薄膜组织均匀、致密地附着于基材,薄膜表面为颗粒状组织。随着溅镀时间的增加,显示薄膜表面晶粒变大,薄膜沉积速率下降。应用高熵合金(Al Cr Nb Si Ti V) N氮化物薄膜镀层刀具干式切削S45C中碳钢圆柱工件时,工件表面的粗糙度和刀具的侧面磨损显著降低。研究显示镀层可有效提升刀具切削效率,延长刀具使用寿命,溅镀时间30 min时,车削刀具的切削性能最佳。 相似文献
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纳米材料的广泛研究为纳米结构薄膜材料的开发和研究提供了坚实的基础.目前,利用自组装的方法制备类似生物材料的有序纳米结构,技术也已经较为成熟.本文采用聚乙二醇（PEG）作为有机添加剂,通过控制PEG的量,可以制备出更小尺寸和形状的二氧化钛薄膜纳米颗粒膜. 相似文献
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材料的使用性能与材料的固有性能、材料的成分/组织结构、材料的制备/合成工艺等息息相关。控制材料的成份对薄膜的性能有至关重要的作用。反应溅射过程中,采用等离子体辉光发射强度能谱控制参与反应的金属粒子或反应气体的浓度或状态,并通过实时反馈系统进行比例调配,可以获得需要的化学计量比薄膜。陶瓷硬质涂层,如氮化物、碳化物、硼化物,金属掺杂DLC等,具有高硬度、低摩擦系数、耐高温、耐腐蚀等性能,广泛应用于机械加工、模具制造、地质探钻、纺织工业及航天航空领域。但薄膜中各组份的化学计量比对其性能有较大影响。本文先总结了反应磁控溅射制备陶瓷硬质工具涂层过程中,使用等离子体辉光反馈控制系统提高工具涂层成膜过程的稳定性以及各元素计量比,实现性能提升的现状。然后基于我们的实验结果,阐述等离子体辉光发射反馈控制系统在硬质装饰膜中的应用前景,希望通过等离子体辉光发射反馈系统控制装饰膜层中的成份与沉积速率,真正做到反应状态与时间的积分得到所需要的颜色,从而解决现如今依靠仿制跟踪、经验积累以及反复试错的现状。 相似文献
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纳米硒化物作为一类重要的半导体纳米材料,在生物标记,太阳能电池,激光器等领域有着广泛的应用。本文综述了硒化物半导体纳米材料的制备与形貌控制方面的最新研究进展,介绍了硒化物纳米材料的各种制备方法,并对各种制备方法及其特点,反应机理进行了分析和归纳。最后,指出目前制备研究过程中有待解决的一些问题,并对这一领域的发展前景作了展望。 相似文献
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纳米硒化物作为一类重要的半导体纳米材料,在生物标记,太阳能电池,激光器等领域有着广泛的应用。本文综述了硒化物半导体纳米材料的制备与形貌控制方面的最新研究进展,介绍了硒化物纳米材料的各种制备方法,并对各种制备方法及其特点,反应机理进行了分析和归纳。最后,指出目前制备研究过程中有待解决的一些问题,并对这一领域的发展前景作了展望。 相似文献
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随着电沉积技术的不断发展,其在纳米材料制备方面的应用逐渐成为人们关注的焦点。本文综述了用电沉积技术制备纳米晶材料的机理,着重介绍了脉冲电沉积法和喷射电沉积法的作用机理和优点,并电沉积纳米晶材料的应用前景进行了展望。 相似文献
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二氧化钛薄膜材料制备工艺研究进展 总被引：1，自引：0，他引：1
TiO2薄膜材料由于其具有颜料特性及高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料，主要对制备TiO2薄膜的常用方法，如溶胶-凝胶法，溅射法，化学气相沉积法进行了综述，以及对TiO2薄膜的制备工艺的发展趋势进行了简述。 相似文献
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随着近年来科学技术的不断发展,薄膜材料被广泛的应用在各行业工作和生产中,对于促进和推动企业的现代化工作和发展发挥着不可替代的作用。21世纪,社会的发展促使先进器械的广泛使用,各种型号的高反膜、分光膜、反射率光膜和增透膜等早已成为各种光学仪器中不可缺少的核心部件。随着社会生产技术的发展,薄膜不仅单纯的应用在光学仪器之中,在其他领域也得到了广泛的应用。多晶钼酸钙薄膜作为主要的薄膜组成成分,受到社会各界的关注与青睐。本文就多晶钼酸钙薄膜的化工制备工艺进行分析与研究,并提出了各种制备原理和优缺点。 相似文献
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运用专利和文献计量法从二氧化碳四类捕获技术(吸收、吸附、低温、薄膜)的数量、所用材料、研究方向及国家技术政策等几个角度进行技术发展态势分析,得出主要结论,CO2捕获技术主要分布在国际专利分类号(IPC)的F部、B部和C部,且吸收、吸附技术为使用最多的技术;未来的研究重点为新型吸收技术,碳纤维复合吸附剂,纳米材料,高透过率、高选择性、高稳定性的膜材料,化学循环燃烧等领域;美国有关该技术的研究处于领先地位;我国应加大对各种捕获技术的研发力度,拓展融资渠道,完善CCS技术相关政策,推动该技术的发展。 相似文献