共查询到20条相似文献，搜索用时 156 毫秒
1.
王宝元 《安顺师范高等专科学校学报》2013,15(3):124-126
文章通过分析薄膜干涉指出增透膜增加透射是利用了薄膜等倾干涉的反射光线干涉相消原理,指出增透是利用减少反射光的能量损来增失强透过光实现增透的作用. 相似文献
2.
张彦亮 《临沂师范学院学报》2004,26(3):44-46
在光学元件中，由于元件表面的反射作用而使光能损失，为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜(增透膜)．研究表明，许多学生对增透膜的增透原理存在错误理解，本文利用电动力学方面的知识分析增透膜增加透射的原理，并给出了单层薄膜增加透射的条件． 相似文献
3.
向琼 《数学学习与研究(教研版)》2013,(8):114
长期以来,对于分式方程为什么要进行检验以及为什么产生增根和减根的问题,教材讲解不详,导致学生理解不透彻,使分式方程的检验成为死记硬背的一个步骤.本文对分式方程中增根、减根情况进行了探讨,以供参考. 相似文献
4.
谭青松 《中学物理教学参考》2007,36(7):16-17
一、问题的提出中学物理教学中,关于光的干涉在技术上的应用,增透膜不失为一个好的例子.对于增透膜的增透原理老师通常作这样的解释"当薄膜(增透膜)的厚度是入射光在薄膜中波长的1/4时,在薄膜的上、下面的反射光的路程差恰好等于半个波长,因而相互抵消.这就大大减少了光的反射损失,增强了透射光的强度".但学生往往会问:"两束光(如图1中光线 A_1和A_2)都是有能量的,为什么叠加之后能量就没有了呢?镀了一层增透膜之后又增加了一个反射面,这就增加了反射出去的能量,如此看来增透膜不但不能增加透射,反而还减少了透 相似文献
5.
6.
于立华 《中学生数理化(高中版)》2013,(11):38-39
分式方程出题时出现增根与无解时该如何区分,常见的三种情况:1.无解=增根.2.无解>增根.3.无解≠增根.在初二数学分式这一章,解分式方程中会出现增根的现象而导致分式方程无解,因此解分式方程时必须检验.而同学们在做相关的练习题时,有时会遇到无解,有时会遇到增根,那么无解与增根到底有怎样的区别呢?(一)无解=增根有时候题目中出现的无解与增根 相似文献
7.
管锦柱 《数理化学习(初中版)》2012,(12):33-34
分式方程的增根问题比较抽象,学生一直难以理解.运用解分式方程的方法去解一个无解的一元一次整式方程,结果得到无数个"增根".再回顾分式方程增根产生的原因,同时介绍检验的三种方法和简便检验分式方程根的由来. 相似文献
8.
9.
美国教师“赋权增能”的动因、涵义、策略及启示 总被引：9，自引：0，他引：9
教师赋权增能有三层涵义,包括在政治上教师享有决策权、在社会上提升教师地位与影响力和在心理上增强教师的自我效能感。美国教师赋权增能的基本策略,主要有州和学区创设社会环境、校长营造校内环境、教师组成专业共同体和教师教育提供智力保障。美国教师赋权增能的走势,为我国教师教育改革提供了“重构教师教育培养目标”“加快政策制度建设”“完善教师教育者的再教育”“更新教师教育内容与方法”和“创新校本教师培训”等启示。 相似文献
10.
程杰 《暨南大学华文学院学报》2011,(4):53-63,78
传统上,增元结构的认定依据动词的黏着性增元形素,汉语因此被认为是非增元语言。然而,零形素句法理论、论旨指派统一性假设、汉语中存在个别显性增元形素的事实、汉语中与非核心论元相关的语义现象等都指向相反的结论：汉语中存在增元结构。在句法方面,增元形素,不论是隐性的还是显性的,可以允准一个非核心论元,在VP之上投射ApplP。基于语段论的句法推导能够简易地生成汉语各类增元结构的表层句式。 相似文献
11.
Micro-indention and finite element method (FEM) are used to study the stress at the interface between diamond-like carbon
(DLC) film and mercury cadmium telluride (MCT) substrate, with different coating thickness, deposition temperature and indention load.
The FEM simulation results show that when Young＇s modulus ratio of the coating to the substrate Ec/Es相似文献
12.
JU Jian-hua XIA Yi-ben ZHANG Wei-li LU Yu WANG Lin-jun SHI Wei-min School of Material Science Engineering Shanghai University Shanghai China National Lab for Infrared Physics. Shanghai Institute of Technical Physics Chinese Academy of 《上海大学学报(英文版)》2000,(Z1)
l IntroductionDLC film is one of coating materials that has highhardness and good wear-resisbot PrOPerlies. When thefilm is deposited on low haulness substrates with thedifferent YOung's model and expansion coefficient, ahigh stress occurs in the film, which resulted in thedecrement of the adherence of the film and the filmspliting or carking['~4]. In order to improve theadherence of DLC film on the soft subside, the mostcommon method is tO colltrol the iIYIPurities, such as H,St, N and… 相似文献
13.
利用磁控溅射技术在玻璃基片上分别沉积ZnOx薄膜、TiO2-y薄膜和TiO2-y/ZnOx双层透明薄膜,改变薄膜沉积过程中的氩气(Ar)和氧气((O2)的比例,获得具有不同氧含量的ZnOx薄膜和TiO2-y薄膜.采用椭偏仪测定所有样品的折射率,仔细研究薄膜中氧含量对折射率的影响.分别选择具有较大的折射率TiO2-y薄膜和具有较小的折射率ZnOx薄膜的生长条件,制备TiO2-y/ZnOx双层薄膜,获得光密媒质/光疏媒质双层结构,并观察到He-Ne激光从ZnOx薄膜入射到TiO2-y/ZnOx界面上发生的全反射现象.研究成果适用于大学生物理实验中的研究型实验或大学创新实验. 相似文献
14.
正交法优化电沉积CuInSe2薄膜条件的研究 总被引：3，自引：0，他引：3
本研究以导电玻璃作基体材料,在0.1 mol/L的柠檬酸和KC1溶液中,在pH为1.5的条件下,采用了正交实验设计和电沉积法,制备了不同的CuInSe2薄膜样品,分析了各样品的X射线衍射测试结果,优选出较佳的电沉积条件,制备了质量较好黄铜矿型的CuInSe2薄膜。 相似文献
15.
本文以Cu(NO3)2.3H2O为铜源,浓氨水为络合剂和NaOH调节溶液的pH,采用化学浴法(CBD)制备了CuO薄膜。通过X-射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对其光催化前后的结构和形貌进行了表征。将CuO薄膜放在含有H2O2的甲基橙溶液中,经不同光源照射一定时间后,取其溶液进行可见分光光度分析来研究CuO薄膜的光催化性能。试验结果表明:紫外灯光源下,当催化剂CuO薄膜的表面积为12.50cm2、3.0%H2O2用量为40.0ml、pH=7时,降解甲基橙溶液的效果较好,光照10min后降解率就达到100.0%;不加H2O2时,需光照40min降解率才能达到100.0%,说明H2O2对CuO膜光催化降解甲基橙起到协同促进作用。 相似文献
16.
Ba0.6Sr0.4TiO3 （BST） thin films with and without HfO 2 buffer layer were fabricated on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by pulsed laser deposition. Dependences of HfO 2 thickness on the dielectric property and leakage current of BST thin films were focused. The dielectric constant of BST thin films increased and then decreased with the increase of HfO 2 thickness, while the dielectric relaxation was gradually improved. The loss tangent and leakage current under positive bias decreased with the HfO 2 thickness increasing. The leakage current analysis based on the Schottky emission indicated an improvement of the BST/Pt interface with HfO 2 buffer layer. The loss tangent, tunability and figure of merit of optimized HfO 2 buffered BST thin film achieved 0.009 8, 21.91% （E max = 200 kV/cm）, 22.40 at 10 6 Hz, respectively. 相似文献
17.
薄膜镀层由于厚度小，难以用通常的磨损方法评估其耐磨性。本文研究了采用精密凹坑研磨仪评价薄膜镀层耐磨性的方法，并对TaN/NbN纳米多层膜和TaN、NbN单层膜进行了磨损实验。结果表明，精密凹坑研磨仪是一种适用于评价薄膜镀层耐磨性的方法。TaN/NbN纳米多层膜有TaN、TbN单层膜更高的耐磨性。 相似文献
18.
采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射光谱(XRD)表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角(SCA)评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5:5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4:6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。 相似文献
19.
关贵清 《宁德师专学报(自然科学版)》2005,17(2):154-156
利用光学薄膜的界面反射和透射的光学原理，通过对空气-薄膜-基片所构成的单层膜系统光学特性的分析，在考虑基片吸收的情况下推导出单层膜系统的透射率公式，依据透射率公式可以求解薄膜的光学常数． 相似文献
20.
利用磁控溅射法在玻璃基片上制备Zn095Ca005O薄膜,用X射线衍射（XRD）研究薄膜的结构特性,用LS920荧光光谱仪测量了样品薄膜的PL谱,探讨了衬底温度对薄膜结晶质量和光学性质的影响。研究发现,衬底温度对薄膜的质量影响较小,450℃时制备的薄膜结晶质量最好;不同衬底温度对发光峰强度有影响;薄膜在可见光区显示出较高的透过性,在350－400nm范围内薄膜透过率骤然下降,在该范围内存在吸收边。 相似文献