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1.
林晨许永超 《福建工程学院学报》2021,(3):216-222
结合单晶蓝宝石衬底磨粒抛光工艺的最新研究进展,从磨粒加工的去除过程出发,综述了应用于单晶蓝宝石衬底抛光的游离、固结、半固结磨料抛光工艺的材料去除模型、工艺特点及各因素影响规律,从材料去除率和表面质量的角度对不同的磨粒抛光工艺展开了分析。根据单晶蓝宝石衬底的应用需求和目前抛光方法存在的不足,指出了蓝宝石衬底超精密抛光技术的下一步研究方向。 相似文献
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针对当前传统游离磨料抛光蓝宝石衬底存在的磨粒轨迹不可控、抛光液污染环境等问题,文章基于半固结柔性抛光工具探究了磨料反应活性及不同绿色络合剂对抛光蓝宝石衬底性能的影响。通过水解沉淀法制备了高活性纳米二氧化硅磨料,分别以木糖醇、甘露醇和三异丙醇胺作为络合剂配制绿色环保型抛光液,基于半固结柔性抛光工具进行加工试验。结果表明,高活性二氧化硅磨料的材料去除率达到1 nm/min,较商用二氧化硅提升了81.8%,表面粗糙度降低了10.5%。同时,相较于甘露醇、三异丙醇胺,当抛光液组分中的络合剂为木糖醇时,蓝宝石衬底表面粗糙度分别降低了33.7%和24%,PV值小于18 nm,材料去除率分别提升了24%和5.1%。高活性二氧化硅磨料和木糖醇络合剂可提高蓝宝石衬底加工过程中的界面反应速率,从而提升了表面质量和加工效率,实现了蓝宝石衬底超光滑、高效率、无污染抛光。 相似文献
3.
亚纳米级抛光是获得超光滑表面的主要方法。目前,常用的亚纳米级抛光方法有化学机械抛光(CMP)、电化学机械抛光(ECMP)、无磨料化学机械抛光(AP-CMP)、磁流变抛光(MRP)等。亚纳米级抛光质量受抛光液、抛光条件和抛光环境等诸多方面的影响。抛光实验室的抛光环境是超光滑表面的重要影响因素之一,必须对抛光环境的各个方面加以科学管理和维护。 相似文献
4.
在电子制造行业，随着产品性能的不断提高，对表面质量的要求越来越高．硅片作为集成电路芯片的基础材料，其表面粗糙度和表面平整度成为影响集成电路刻蚀线宽的重要因素之一．在计算机硬盘技术中，磁头、磁盘的表面粗糙度、波纹度和纳米划痕不仅影响磁头的飞行稳定性，而且影响表面的抗腐蚀性．抛光是表面平面化加工的重要手段．与机械抛光、化学抛光、流体抛光、磁研磨抛光、离子束轰击抛光、电化学抛光、浮法抛光等常见的抛光技术相比，化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing，简称CMP)是目前广泛采用的并且是几乎唯一的全局平面化技术．CMP是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，其工艺是将待抛光工件在一定的下压力及抛光液的存在下相对于抛光垫作旋转运动，借助抛光液中磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面的材料去除，并获得光洁表面．该文综述了CMP技术在集成电路、计算机硬盘基片等先进电子产品制造中的应用． 相似文献
5.
童和平 《广东广播电视大学学报》2014,(1):109-112
基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及试验装置对单晶碳化硅基片进行了平面抛光试验,结果表明,金刚石磨料对单晶Sic基片具有较高的材料去除率;加工间隙在1．5I砌左右具有较好的加工效果,随着加工时间的延长表面粗糙度越来越小,且30min内表面粗糙度变化率达到89％以上。通过优化工艺参数对单晶SiC进行集群磁流变平面抛光,发现经过30min加工,表面粗糙度Ra从42．1m下降到4．2nm,表明集群磁流变效应平面抛光用于加工单晶SiC基片可行且效果显著。 相似文献
6.
磨料水射流工艺参数对工件加工指标的影响 总被引：1，自引：0，他引：1
张长海 《西安文理学院学报》2005,8(3):72-75
针对磨料水射流抛光零件表面的工艺参数——加工时间、靶距、射流压力、喷射倾角、磨料粒度、磨料浓度、流量等对加工指标的影响，用正交试验方法，进行有关试验。结果表明，针对不同材料，不同表面粗糙度要求，选择合理工艺参数对零件进行光整加工影响不同。 相似文献
7.
针对目前磨料流加工存在的问题,本文设计了一种新型的细孔磨料流加工机床.从浆料流变学的角度,推导出磨料流加工中壁面剪应力的数学表达式.结合数学表达式对其加工原理进行了分析,得出新型磨料流加工机床研磨内孔的3种主要方式.相比只存在粘性剪应力的研磨加工,新型研磨机床采用复合粘性剪应力和雷诺剪应力的工作方式,其加工效率得到明显提高.最后给出细孔磨料流加工机床在喷油器体内孔研磨加工的应用实例. 相似文献
8.
童和平 《广东广播电视大学学报》2014,(1)
基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及试验装置对单晶碳化硅基片进行了平面抛光试验,结果表明,金刚石磨料对单晶SiC基片具有较高的材料去除率;加工间隙在1.5mm左右具有较好的加工效果,随着加工时间的延长表面粗糙度越来越小,且30min内表面粗糙度变化率达到89%以上。通过优化工艺参数对单晶SiC进行集群磁流变平面抛光,发现经过30min加工,表面粗糙度Ra从42.1nm下降到4.2nm,表明集群磁流变效应平面抛光用于加工单晶SiC基片可行且效果显著。 相似文献
9.
对三种不同晶粒度的花岗石抛光表面的光泽度特性进行了研究,分析了花岗石抛光表面的光泽度与金刚石磨盘磨粒大小以及与花岗石本身晶粒度的关系,对同一块花岗石不同测量点光泽度的离散性进行了分析,提出了花岗石抛光表面光泽度具有方向性的概念,探讨了光泽度方向性的影响因素.该研究为花岗石抛光表面光泽度的精确测量提供了依据. 相似文献
10.
《实验室研究与探索》2020,(2)
为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过调节离子束的能量、束流密度和入射角等工艺参数对抛光效果的影响。试验结果表明,随离子束能量的增加,试件的表面粗糙度RMS先减小后增大,当离子束能量为200～600 eV时试件表面粗糙度明显提高,为离子束抛光能量最佳范围。离子束流入射最佳角度范围为45°～60°,随着离子束抛光时间的增加,试样表面粗糙度先降低后增大。 相似文献
11.
研究了1Cr18Ni9Ti不锈钢在磷酸—硫酸—铬酐等电解液中电化学抛光后的性能。结果表明:电化学抛光后1Cr18Ni9Ti表层钝化膜形成,其耐腐蚀性明显提高,表面光亮度比机械抛光明显提高,可达镜面程度。同时冷作硬化层的去除,使表面显微硬度稍下降,电化学抛光可提高1Cr18Ni9Ti不锈钢的宏观性能。 相似文献
12.
Instead of manual polishing work for aluminum wheel hub （hub） surface, a new planetary scroll surface polishing method based on the rotation and revolution of hub in abrasives is presented in this paper. Since conventional barrel rotation polishing mode is unsatisfactory, shorter polishing period and lower energy consumption are expected. The surface polishing mechanism of the proposed method is ghen introduced. The influence of cutting velocity, cutting angle, abrasive on surface polishing quality and efficiency, as well as the correlation of the revolution velocity and the rotation velocity of hub are discussed. Experimental results show that high surface polishing quality and efficiency can be achieved with the new polishing method implying that a dustless clean working environment is realized. 相似文献
13.
The market of stainless electric steel kettles is growing significantly, but the main mechanism for polishing kettles via traditional handwork operations limits the growth of electric kettle manufacturing. Based on the successful multi-tool automatic polishing system for electric stainless steel kettles, regression analysis and orthogonal tests were employed to construct a polishing process model, with a purpose to improve the automatic polishing technology for electric stainless steel kettles. The model reveals the relationship between the surface roughness and processing parameters including gringding depth, abrasive tangent speed, workpiece rotating speed and axial feeding speed. Simulation and experimental results are in agreement,which shows that this modeling method is feasible in practice, and it can also be used as a guidance for planning automatic polishing process of electric stainless-steel kettles. 相似文献
14.
To improve polishing quality and cope with the shortage of skilled workers for aluminum wheel-hub surface polishing, an automatic surface polishing system with hierarchical control based on the teaching-playback method was presented. Multi-axis cutter location data （CL data） were generated with the teaching method. First, a helical tool path and a flexible polishing tool were adopted to achieve high quality and high efficiency; next, the initial irregular data were processed into continuous polishing CL data. The important factor affecting polishing quality, namely the interpolation cycle in the multi-axis CL data was calculated based on a constant removal rate. Results from polishing experiments show that the quality of automatic machine polishing is better and stabler than manual polishing. 相似文献
15.
王航罗敏峰 《福建工程学院学报》2021,(6):524-531
为探究金属工件在砂带磨削加工中的材料去除机理,对砂带磨削系统简化后建立几何模型,并设置模型参数及运动建立了砂带磨削加工的离散元动态仿真。仿真结果表明:通过单因子试验研究不同的磨削参数对材料去除深度(material removal depth, MRD)的影响规律?通过正交试验得到不同磨削参数对MRD 的影响贡献率,其中砂带转速的影响最大、其次是砂带进给量,同时得到磨削参数的最优组合为工件进给量为0.5 mm,砂带转速为1 800 r/ min,工件速度为40 mm/ s,水平夹角为40°;最后通过实验验证仿真结果与结论的正确性。 相似文献
16.
文章介绍了可用于改善高密度纸板性能的四种新型生产工艺,从生产用水净化、磨浆设备中磨片的形状、真空泵变频控制、气浮机回收纤维等四个方面对高密度绝缘纸板生产工艺进行了改进。结果表明：经工艺改进后,高密度绝缘纸板综合性能得到较好改善,收到了较好的效果。 相似文献
17.
本针对传统磨具毛坯成型工艺的不足，介绍了将高精度微电子定位装置应用于磨具毛坯生产中。实现定程成型的方法，并给出了相应的工艺流程图。 相似文献