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本文介绍了光学薄膜离子柬辅助蒸发沉积技术的进展,介绍了离子源技术以及离子束辅助沉积技术对薄膜特性的影响。 相似文献
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用Ar＋注入小麦花培5号的干种子。结果表明,M1代的生育期和农艺性状与对照差异不显著。M2代出现株高、穗长变异,变异率为0.2%,10个变异株经SSR鉴定,90对引物中有6对能扩增出特异带,突变点分别发生在2A、2D、3B、5A染色体上。10个变异株的M3代均发生严重的正向或负向分离,有利于筛选到特殊变异类型。 相似文献
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等离子束表面冶金是一种新的表面涂层技术。本文通过对等离子束表面冶金热循环的特点和冶金过程的探讨,对锕基体热影响区进行了测试分析,并将热影响区划分为过热区、完全相变区和不完全相变区。本文通过对等离子束表面冶金涂层技术与其他相近技术进行了比较,得出等离子束表面冶金涂层技术效率高,操作简便,成本低,应用前景广阔。 相似文献
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月前,中国电器工业协会、中国标准化委员会和IEC中国委员会代表IEC总部向西安交通大学电信学院赵玉清教授颁发了2008年度IEC1906大奖。同时。西安交通大学被中国电器工业协会授予电工行业国际标准化突出贡献单位。IEC1906大奖是国际电工技术委员会（IEC）2004年创立的作为对发展IEC工作项目在技术上做出突出贡献的各国专家奖励的奖项,是该领域的最高科技年度大奖。 相似文献
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为了解决受荷电效应影响导致玻璃类绝缘样品加工难的问题,提出了改进聚焦离子束常规制备透射电镜样品的方法。改进的方法主要是在制备过程中引入电子束辅助沉积和机械手辅助切割,并搭配合理的离子束加工束流。其中,电子束辅助沉积可以帮助操作人员在因荷电效应而模糊不清的图像中迅速且精准地找到关键区;机械手辅助切割可通过建立更好的电荷接地通道来减弱切割过程中材料表面的荷电现象;合理的离子束加工束流则是为了平衡荷电效应和加工速率之间的矛盾。结果表明,改进后的方法能够在保证加工速率的前提下,有效改善材料表面的荷电现象,实现离子束对玻璃材料的快速精准加工,获得良好的透射电镜样品。 相似文献
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用In2O3粉体与ZnO粉体均匀混合,压制成溅射靶.在Si和SiO2/Si衬底上,用离子束增强沉积(IBED)方法对沉积膜作Ar+/N+注入,制备In-N共掺杂氧化锌薄膜.在氮气氛中作适当的退火,可以方便地获得取向单一、结构致密、性能良好的共掺杂ZnO薄膜.初步研究了INZO共掺杂薄膜的电阻率随退火条件的变化. 相似文献
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《实验室研究与探索》2020,(2)
为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过调节离子束的能量、束流密度和入射角等工艺参数对抛光效果的影响。试验结果表明,随离子束能量的增加,试件的表面粗糙度RMS先减小后增大,当离子束能量为200～600 eV时试件表面粗糙度明显提高,为离子束抛光能量最佳范围。离子束流入射最佳角度范围为45°～60°,随着离子束抛光时间的增加,试样表面粗糙度先降低后增大。 相似文献
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介绍应用分离振荡技术测量类氢氦离子(~4He~ )的兰姆移动,由于氦原子的核体积精度比氢原子的核体积精度高,从而提高了兰姆移动的测量精度,使理论值和实验值符合得更好。 相似文献
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《中国科技奖励》2013,(7):47-51
[湖北省自然科学奖一等奖]
纳米光电材料的设计、制备与离子束改性研究
完成人:蒋昌忠、廖蕾、任峰、肖湘衡、李金钗
完成单位:武汉大学
本项目研究为纳米材料的设计、制备及利用离子束技术提升其性能提供了新思路,为开发新型纳米光电材料和器件奠定了理论基础和技术储备.在国际上获得了较高的学术影响力,取得的有特色的创新性研究成果如下:
1.在国际上首次利用离子束技术获得了结构和等离激元光学性能可控的多层结构金属纳米颗粒,揭示了离子束与金属纳米结构相互作用新特点以及离子束纳米结构调控新机理.在纳米尺度下,离子束与固体相互作用导致的级联碰撞效应和缺陷自扩散效应是多层结构纳米颗粒形成的机理. 相似文献