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对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案,结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。 相似文献
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《中国科技信息》2017,(16)
基于近年来国内外手机终端厂家提出的将蓝宝石晶体材料应用于手机视窗盖板的相关计划,本文采用热交换晶体生长方法,成功生长出直径400mm,高260mm,重量140KG的蓝宝石晶体。将蓝宝石晶体材料制成双面抛光蓝宝石手机视窗盖板,抛光后的蓝宝石手机视窗盖板的表面粗糙度小于1nm,表面厚度偏差(TTV)小于10,表面翘曲度小于20,莫氏硬度达到了9级,纳米维氏硬度大于30GPa,在400nm~740nm可见光波段的透过率超过86%,平均四点弯曲强度达到了1000MPa以上,耐跌落能量大于0.4焦耳小于0.45焦耳,测试数据表明热交换法蓝宝石手机视窗盖板性能优于玻璃材质手机视窗盖板,是未来智能手机屏幕视窗盖板的理想材料。 相似文献
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在化学机械抛光过程中,抛光垫表面沟槽形状是决定抛光垫性能的重要影响因素之一,它会直接影响抛光效果。在分析几种常规抛光垫表面沟槽结构形状的特性的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,分析了几种新型抛光垫表面沟槽对抛光效果的影响,为化学机械抛光用的抛光垫表面沟槽特性的深入研究与分析提供参考。 相似文献
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针对磁流变抛光技术的研究现状,主要对磁流变抛光技术的原理及应用、产生与发展、当前磁流变抛光研究的重点及其得到的成果等方面进行了归纳总结.介绍了自行开发的手持式磁流变抛光工具,并对磁流变抛光技术的发展趋势进行了分析与展望. 相似文献
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本文叙述了模具型腔及表面的抛光、花纹、镀层等加工处理技术。包括对被处理模具的选材及热处理的具体要求,以及手工抛光塑料模具型腔的要求,和粗磨、细磨、抛光和操作注意事项。详细介绍了模具表面强化、模具表面抛光、模具表面孔洞分析及改善、模具表面凸痕及改善、模具型腔表面花纹、锌基合金模具表面电镀铬等模具型腔及表面的加工处理技术。 相似文献
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<正>作为抛光速率和抛光效果俱佳的抛光技术,化学机械抛光得到了广泛的发展与研究,本文梳理化学机械抛光技术的专利申请趋势、创新主体、重点专利等方面,对化学机械抛光进行专利分析,为该领域技术人员了解专利申请情况提供参考。概述化学机械抛光（Chemical Mechanic Polishing,CMP）是一种表面全局平坦化技术,它利用磨损中的“软磨硬”原理,即采用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光;基本工艺是将待抛光工件置于由纳米级磨料颗粒、 相似文献
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本文的主要目的是研究注塑模具钢自动研磨与球面抛光加工工序的可能性。目前,此项研究已经完成了磨削刀架的设计与制造。对于PDS5注塑模具钢的最佳球面研磨参数而言,其是以下因素的一系列的组合:研磨材料的磨料为粉红氧化铝,进给量500毫米/分钟,磨削深度20微米,磨削转速为18000RPM。如果用优化的参数进行表面研磨,表面粗糙度Ra值可由大约1.60微米改善至0.35微米。而用球抛光工艺和参数优化抛光,则可以进一步改善表面粗糙度Ra值从0.343微米至0.06微米左右。在模具内部曲面的测试部分中,用最佳参数的表面研磨、抛光,曲面表面粗糙度就可以提高约2.15微米到0 0.07微米。 相似文献
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为了消除单点金刚石车削(SPDT)后KDP晶体表面留下的周期性小尺度波纹,文章探索采用离子束溅射沉积-刻蚀的方法对车削后KDP晶体进行抛光加工。本文主要分析了平坦化层材料的选择,溅射沉积工艺参数对KDP晶体平坦化层粗糙度的影响,并计算了平坦化层刻蚀速率从而完成了刻蚀转移。利用刻蚀转移成功地将单点金刚石车削后的表面由初始的6.54nmRMS,经过1.76nmRMS的平坦化层,最终刻蚀转移到KDP晶体表面得到1.84nmRMS的光滑表面,实验结果验证了离子束溅射沉积—刻蚀抛光方法的可行性。 相似文献
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本文的主要目的是研究注塑模具钢自动研磨与球面抛光加工工序的可能性。而完成这种注塑模具钢PDS5的塑性曲面的加工是在数控加工中心实现的。目前,此项研究已经完成了磨削刀架的设计与制造。其中,最佳表面研磨参数是在钢铁PDS5的加工中心测定的。对于PDS5注塑模具钢的最佳球面研磨参数而言,其是以下因素的一系列的组合：研磨材料的磨料为粉红氧化铝．进给量500毫米／分钟,磨削深度20微米,磨削转速为18000R2aM。如果用优化的参数进行表面研磨,表面粗糙度Ka值可由大约1．60微米改善至0．35微米。而用球抛光工艺和参数优化抛光,则可以进一步改善表面粗糙度Ra值从0．343微米至0．06微米左右。在模具内部曲面的测试部分中。用最佳参数的表面研磨、抛光,曲面表面粗糙度就可以提高约2．15微米到0．07微米。 相似文献
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近年来发展起来的蓝宝石图形化衬底(PSS)技术,不仅能减少生长在蓝宝石衬底上GaN外延材料的位错密度,延长LED使用寿命,还能提高LED芯片的出光效率,从而提高LED发光效率。本文着重介绍了蓝宝石图形化衬底的两种主流制备工艺及其优缺点,并比较了两种不同图形尺寸制备蓝宝石图形衬底的特点及对LED的光输出功率的改善,并展望了图形化衬底技术未来的发展方向。 相似文献
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