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1.
采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2＋掺杂TiO2薄膜。通过XRD、AFM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能。实验结果发现：少量Ni2＋掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性。但Ni2＋掺杂却使TiO2光催化性能有所降低。结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性。 相似文献
2.
采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2+掺杂TiO2薄膜.通过XKD、APM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能.实验结果发现:少量Ni2+掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性.但Ni2+掺杂却使TiO2先催化性能有所降低.结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性. 相似文献
3.
利用溶胶凝胶法制备TiO2／Al2O3复合物,550cC高温处理TiO2／Al2O3复合物,制得TiO2／Al2O3复合物的干凝胶粉和覆盖在石英玻璃基片上的TiO2／Al2O3复合物,通过XRD对TiO2／Al2O3复合物的干凝胶粉进行物相分析;通过AFM对石英玻璃基片上的TiO2／Al2O3复合物镀膜表面形貌进行表征;通过FT—IR分析干凝胶粉结构特征;在紫外光照条件下测试TiO2／Al2O3复合物光催化性能。结果表明：Al2O3的掺杂可使T1O2的X射线衍射峰宽化,出现微弱的θ-Al2O3特征峰。随着Al2O3掺杂量的增加光催化活性显著提高。 相似文献
4.
刘炳娟 《邯郸职业技术学院学报》2007,20(3):52-54
介绍TiO2光催化氧化反应机理、TiO2光催化氧化技术及其在处理染料废水、农药废水、含油废水、造纸废水、含表面活性剂废水等方面的应用,并对其目前存在的问题进行了简单的阐述。 相似文献
5.
采用基于周期性密度泛函理论的第一性原理,文章计算了N吸附于锐钛矿2TiO 晶体表面和掺杂于2TiO （001）的表面及次表面后晶体结构的变化及形成能,并讨论了能带结构及态密度的变化。通过形成能的比较发现, N最佳掺杂位为2TiO （001）表面空穴位,且掺杂后在2TiO 表面形成新的成键结构。通过对能带的观测可以发现由于N的掺杂使得2TiO 出现明显的半金属性。 相似文献
6.
李自成 《实验室研究与探索》2014,(2):35-38
制备了系列载银TiO2光催化剂,测量了不同条件下制备的TiO2-Ag复合光催化剂的表面ζ电位,研究了制备条件对ζ电位的影响。以甲基橙为构像化合物研究了系列催化剂的光催化降解效果,同时,探讨了TiO2-Ag催化剂表面ζ电位与光催化效果之间的关系。结果表明,TiO2-Ag催化剂表面ζ电位越高,光催化降解效率越好。实现了载银TiO2光催化剂的制备及表面电性质表征的新方法。 相似文献
7.
以钛酸丁酯为前驱体,采用溶胶-凝胶法在玻片上制备TiO2半导体薄膜,以微孔敏化的方法将CdS引入到TiO2纳米粒子的表面,形成的CdS-TiO2半导体复合膜用于处理煤气发生站废水中的污染物.研究了CdS-TiO2复合半导体材料光催化降解作用机理和CdS含量对TiO2半导体材料光催化降解活性的影响. 相似文献
8.
邓存 《宁德师专学报(自然科学版)》2005,17(2):113-118
采用气相流动吸附法制备了TiO2／SiO2复合载体，用浸渍法制备了WO3／(TiO2／SiO2)催化剂，应用，XRD和LRS等技术研究了TiO2在SiO2表面及WO3在TiO2／SiO2复合载体表面上的分散状态．结果表明，TiO2在复合载体中的载量低于其分散阈值时，它在SiO2表面呈单层但非密置单层分散；WO3在催化剂中的载量低于其分散阈值时，它在复合载体表面亦呈单层但非密置单层分散．TiO2在SiO2表面上的分散可改善WO3的分散状态，提高WO3在SiO2表面上的分散阈值． 相似文献
9.
采用Langmuir—Blodgett术和溶胶-凝胶（sol—gel）法在氧化铟锡（ITO）表面制备了TiO2球腔阵列．研究了TiO2球腔阵列的电化学性质,结果表明：所制备的TiO2球腔阵列具有微电极阵列特性．将血红蛋白（Hb）直接吸附在TiO2球腔阵列内部,制备过氧化氢（H2O2）生物传感器．修饰电极对过氧化氢（H2O2）的电流响应快速稳定、重现性和选择性较好,在9．00×10^-7～4．44×10^-4mol／L范围内H2O2浓度与响应电流呈现良好的线性关系,其检出限为3．12×10^-7mol／L,米氏常数为0．138mmol／L． 相似文献
10.
在Na2CO3溶液中,采用微弧氧化方法制备了纳米晶TiO2薄膜。利用XRD和SEM分别对氧化膜的相组成和表面形貌进行了分析。结果表明,氧化膜主要含锐钛矿和金红石相TiO2,且表面布满了尺寸在160nm-60nm之间的柱状TiO2晶粒。 相似文献
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用阳极氧化法在Ti基片上制备出TiO2薄膜,然后通过电化学沉积法将Co-Pi和Cu2O沉积在TiO2薄膜表面.通过扫描电镜、X-射线衍射和光电化学性质测试,发现TiO2薄膜表面先沉积Co-Pi能够有效阻止Cu2O颗粒堆积,光电流显著提高.而先沉积Cu2O后沉积Co-Pi,则会使Cu2O还原为Cu,同时形貌发生改变.特别地,沉积300秒Co-Pi后再沉积Cu2O颗粒,能得到200 mA/cm2的最大光电流. 相似文献
12.
TiO2 fibers were prepared via alternatively introducing water vapor and Ti precursor carried by Ne to an APCVD (chemical vapor deposition under atmospheric pressure) reactor at <200 ℃. Activated carbon fibers (ACFs) were used as templates for deposition and later removed by calcinations. The obtained catalysts were characterized by scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), Brtmauer, Emmett and Teller (BET) and X-ray diffraction (XRD) analysisThe pores within TiO2 fibers included micro-range and meso-range, e.g., 7 nm, and the specific surface areas for TiO2 fibers were 141 m2/g and 148 m2/g for samples deposited at 100 ℃ and 200 ℃ (using ACF1700 as template), respectively. The deposition temperature significantly influenced TiO2 morphology. The special advantages of this technique for preparing porous nano-material include no consumption of organic solvent in the process and easy control of deposition conditions and speeds. 相似文献
13.
利用常压MOCVD法在Si及Al2O3衬底上制备了TiO2薄膜.研究了沉积温度和退火温度对TiO2薄膜结构和形貌的影响,以及TiO2薄膜的光学性质.研究发现,沉积温度为600℃时,制备的TiO2薄膜结构为锐钛矿相,薄膜质量较高.TiO2薄膜在1 090℃高温退火后,薄膜结构完全转变为金红相.TiO2薄膜在可见区域有着高达90%以上透射率,在紫外区域有着强烈的吸收. 相似文献
14.
A theoretical treatment of simulating the morphology and content of SnO2 film coated on ultrafine Al2O3 particles in fluidized bed by chemical vapor deposition (CVD) was developed. The present model accounted for chemical reaction, coagulation, film coating, nucleation coating and gas entrainment of the coating process, which made it possible to predict the quality and quantity of the film coated. By means of Tenanor's method, the model was calculated numerically. Part of the numerical results were compared with the experimental data. 相似文献
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1 Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｂｅｃａｕｓｅｏｆｔｈｅｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｏｆａｎｕｍｂｅｒｏｆｆａｖｏｒａｂｌｅｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ,ｓｕｃｈａｓｈｉｇｈｈａｒｄｎｅｓｓ,ｈｉｇｈｃａｒｒｉｅｒｍｏｂｉｌｉｔｙａｎｄｂｒｅａｋｄｏｗｎｖｏｌｔａｇｅ,ｌａｒｇｅｂａｎｄｇａｐ ,ｌｏｗｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃｃｏｎｓｔａｎｔ,ａｎｄｔｒａｎｓｐａｒｅｎｃｙｔｏｖｉｓｉｂｌｅｌｉｇｈｔ,ＩＲｌｉｇｈｔａｎｄｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ,ｅｔｃ.[1] ,ｄｉａｍｏｎｄｆｉｌｍｈａｓｂｅｅｎｃｏｎｓｉｄｅｒ ａｂｌｙｐｒｏｍ… 相似文献
16.
In this study, supported nonmetal (boron) doping TiO2 coating photocatalysts were prepared by chemical vapor deposition (CVD) to enhance the activity under visible light irradiation and avoid the recovering of TiO2. Boron atoms were successfully doped into the lattice of TiO2 through CVD, as evidenced from XPS analysis. B-doped TiO2 coating catalysts showed drastic and strong absorption in the visible light range with a red shift in the band gap transition. This novel B-TiO2 coating photocatalyst showed higher photocatalytic activity in methyl orange degradation under visible light irradiation than that of the pure TiO2 photocatalyst. 相似文献
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利用PECVD生长技术制备a-Si/SiNx多层膜,利用解理技术获得干净平滑的截面.利用选择性化学腐蚀技术在横截面上制备出浮雕型一维纳米模板.通过控制多层膜子层的生长时间,得到线条宽度和槽状宽度均最小为20纳米的等间距模板,品质优于电子束制备的模板.以这种模板为基础,利用印章技术制作了硅基光栅. 相似文献
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采用溶胶-凝胶法,制备了TiO2薄膜.利用XRD,SEM,UV-VIS等测试手段进行了样品的表征分析,以降解罗丹明B为反应模型,研究了薄膜的日光催化活性.结果表明,TiO2薄膜有明显的降解效果,显示出良好的催化活性. 相似文献
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采用溶胶-凝胶法,制备了TiO2薄膜.利用XRD,SEM,UV-VIS等测试手段进行了样品的表征分析,以降解罗丹明B为反应模型,研究了薄膜的日光催化活性.结果表明,TiO2薄膜有明显的降解效果,显示出良好的催化活性. 相似文献
20.
分析了电子束沉积镍铬合金膜沉积的主要缺点,提出离子辅助电子束法沉积镍铬合金膜的新方法。利用氩离子辅助在微通道板表面沉积了镍铬合金膜,对比和分析了使用氩离子辅助沉积和电子束沉积薄膜的性质(附着力、致密性、表面电阻等)。结果表明,使用250eV的氩离子源辅助沉积的镍铬合金膜附着力好、结构致密、表面电阻低。 相似文献