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利用磁控溅射法在玻璃基片制备TbCo非晶垂直磁化膜,采用样品振动磁强计和磁转矩测量仪测量薄膜的磁性能和磁转矩曲线．结果表明：Cr底层、TbCo磁性层组分、溅射气压、基片偏压、退火温度和TbCo磁性层厚度对薄膜的磁各向异性能都有很大影响．． 相似文献
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较详细介绍了磁光克尔效应的原理、测量方法以及磁光克尔法的实验装置,也介绍了实验装置中的仪器特点以及磁光克尔法的测量过程。从实验结果可以看出,NiMn多层薄膜有明显的磁滞行为,反映了NiMn多层薄膜的铁磁特性。 相似文献
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《嘉应学院学报》2017,(8):31-36
在低温条件下利用Al诱导结晶在绝缘衬底上生长高晶体质量的多晶Ge薄膜.使用厚度为1~10 nm的Ge插入层可以改善多晶Ge薄膜的生长条件,Ge插入层放置在Al层的下方.使用Ge插入层的目的是提高Ge原子在Al层中的超饱和浓度.Ge插入层可以在275°C的低温下产生Al诱导结晶.Ge插入层可以导致较高的成核率,厚度大于3 nm的Ge插入层可以产生大量的Ge晶体小颗粒,厚度为1 nm的Ge插入层可以促使多晶Ge薄膜快速生长,并产生直径为100μm的Ge晶体大颗粒.从电子背散射衍射(EBSD)测量中可知,Al诱导结晶生长的多晶Ge薄膜具有良好的(111)晶向. 相似文献
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以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3/PbTiO3铁电多层薄膜.采用两步法在峰值温度750℃对薄膜进行退火.通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量.研究发现,原位生长的薄膜已经具备了较好的铁电性,这为(1-x)Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-x0.1PbTiO3薄膜的低温制备提供了可能性.经过退火后,薄膜的铁电性略有下降,高温下铅的损失可以很好的解释这一现象. 相似文献
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饶丰 《海南师范学院学报》2006,19(1):38-41
提出了一种由高折射率纤芯／波导层／金属薄膜包覆层／被检测物层构成的四层结构表面等离子共振光纤生物传感器．对其研究发现：这种传感器能够很好地感应待测物的折射率，与三层薄膜结构光纤SPR传感器相比其衰减峰非常尖锐，这说明其损耗小且分辨力高，适合长距离、高精度、高分辨力场合的测量，对生物医学中的免疫反应实时检测及表面显微技术的研究具有重要的意义． 相似文献
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介绍了适用薄膜残余应力测量的弯曲法和X射线掠射法,重点介绍了一种新型测量薄膜残余应力的方法—纳米压痕法,并采用非球形压头纳米压痕法测量了NiTi薄膜的残余应力,对薄膜残余应力的测量进行了有益的探讨和尝试,结果表明纳米压痕技术可作为定性测量薄膜残余应力的有效手段。 相似文献
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用喔星铝作发光层、铝作负电极,镀制了有机电致发光薄膜器件,测量了其特性曲线,定性分析了发光原因,总结了材料的物性. 相似文献
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有机电致发光薄膜的电流输运机理的分析 总被引：2，自引：0，他引：2
用TPD做空穴传输层,8－羟基喹啉铝做发光层,制备了有机薄膜器件,测量了其电致发光特性;分析了该器件的电流输运机理,认为该有机薄膜器件在电致发光时流过器件的电流受热电子注入效应、空间电荷限制效应、隧穿效应及器件电阻效应的影响。 相似文献
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样品的倾斜度对椭偏法测量薄膜参数的影响 总被引：1，自引：0，他引：1
为了研究薄膜样品的倾斜程度对椭偏法测量薄膜参数的影响,运用椭偏法测量原理及Matlab软件,分析与计算了薄膜样品的倾斜度对测量薄膜参数的影响程度,结果表明这种影响是很小的,并通过实验验证了理论分析与实验结果是相符的。为迅速调整好椭偏仪提供了理论和实验依据。 相似文献
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赵升升 《深圳职业技术学院学报》2013,12(3):64-69,74
文章讨论了几种薄膜残余应力测试方法的优缺点,介绍了氮化物薄膜应力沿层深分布趋势的最新研究,偏压和N2分压工艺对薄膜应力的影响及几种调节薄膜残余应力的有效方法．脉冲偏压增大,薄膜残余应力显著增加：N2分压增大,薄膜残余应力显著增加．采用独立变化脉冲偏压或变化N2分压工艺制备的薄膜,其残余应力沿层深分布趋势明显均匀,薄膜残余应力可得到有效调整． 相似文献
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利用PLD方法,在倾斜LaAIO,单晶衬底上镀制了'LaCaSrMnO3薄膜.对该薄膜进行了LITV信号测量,表明其LITV信号上升沿和脉冲宽度都比LCMO薄膜小,可以用来制作更快响应的光探测器件;对该薄膜进行了R-T关系测量,其金属-绝缘体转变点为313K. 相似文献
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利用迈克尔逊干涉原理测量薄膜厚度的方法,以测量PE保鲜膜和透明塑料膜为例,采用白光干涉产生的彩色条纹来精确测量薄膜的厚度,通过采集干涉产生的实验数据,计算出薄膜的厚度,这是一种实用有效的方法.此方法的测量范围为1μm～1cm,测量精度为0.1μmn. 相似文献
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为了实时监测光学薄膜的厚度,设计和制作了一款照明和采集干涉图谱为一体的石英光纤束探头,基于光学多道分析器、白色LED光源和计算机等设备组成,实现高精度监测薄膜厚度的测量系统.以薄膜等厚干涉原理为依据,分析了干涉相消波长测量薄膜厚度的原理与可行性.用汞灯标准谱线对光学多道分析器进行定标,通过自制的石英光纤束探头照明和采集干涉图谱,经光学多道分析器与计算机处理获得薄膜反射干涉相消光波长,计算得到光学薄膜厚度.测量系统通过对手机屏幕贴膜和不干胶薄膜样品的涂层厚度测试,可以监测纳米量级的薄膜厚度. 相似文献
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迈克尔逊干涉仪测量薄膜的折射率与厚度 总被引：2，自引：0，他引：2
用迈克尔逊干涉仪测量薄膜折射率与厚度的方法,原理简单．通过测出动镜的移动量及观察相应的干涉条纹变化现象,就能计算薄膜的厚度,有较高的测量精度．并基于此装置进行实际测量,理论和实际相符的较好． 相似文献
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分光计的调整对椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率的影响 总被引：3，自引：0，他引：3
该文用了两个不同的薄膜样品，在两台不同的分光计上，用不同的入射角对薄膜的厚度和折射率进行了测量，并通过比较实验结果，说明了在用椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率的实验中，分光计的调整对实验结果的影响是可以忽略的。 相似文献
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将样品分别放在Lloyd干涉装置的两个不同位置进行薄膜厚度和折射率的测量是一种简单易行的方法。这种方法与其它方法的区别在于只需通过分析干涉条纹就能确定薄膜的厚度和折射率,这就避免了测量能量的误差,消除光源不稳定和外界对光强的影响。通过对两种不同厚度聚合物薄膜样品的测量,证实了这种方法是有效的,厚度测量误差为2%,折射率的误差为±0.002。 相似文献