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薄膜干涉在光学中的地位是举足轻重的，是波动光学中产生相干光的两种典型方法之一——分振幅法，它与双缝干涉、单缝衍射等经典实验一起奠定了波动光学的历史地位。中学物理教材中，强调的是“光是一种波”这个结论，但是，对于缺乏量子理论基础的学生来说，在接受光是一种波的同时，将立即产生了一个新的问题：“在增透膜问题上，既然光已经从薄膜的前、后表面反射回来并发生了相消干涉，那么，它又是怎么再进去， 相似文献
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利用Aureka分析软件的专利引证树和专利地图对国外薄膜太阳能领域的专利进行分析,并对日本半导体能源实验室的高被引证专利进行专利引证树分析,得到了被引专利的技术总体分布、技术发展历程、目标公司及竞争对手布局分析。该研究结果可为我国薄膜太阳能领域相关企业制定研发策略、寻求技术发展方向和规避专利侵权风险提供帮助。 相似文献
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本文采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜厚度的影响,这些工艺参数是溅射类型、溅射时间、基靶距。 相似文献
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专家简介:胡志高,华东师范大学信息科学技术学院电子工程系副系主任,博士生导师。研究领域近年来主要集中在铁电薄膜材料、导电金属氧化物薄膜以及氧化物半导体材料的光电特性研究方面。在PRB、APL以及JAP等著名期刊上发表SCI收录国际学术刊物论文100多篇(其中影响因子3.0以上有35篇)他引200多次。出版国际英文学术专著章节3章。2007年入选上海市"浦江人才计划",2008年入选教育部 相似文献
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简述了X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)的基本原理,计算了硅晶体的消光特性,从理论上研究了Si基薄膜XRD表征的特征.研究结果表明:由于薄膜的择优生长,Si基薄膜XRD谱与粉晶XRD谱存在差异;并可能观测到Si基片的二级衍射峰.研究结果在实际应用中对分析硅基薄膜的晶体结构具有重要意义. 相似文献
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对Ag金属颗粒镶嵌在SiOx陶瓷基体中形成的金属陶瓷薄膜光学常数的尺度效应进行了研究。用修正的M-G（Maxwell-Gannett）理论对Ag-SiOx金属陶瓷薄膜,在金属微粒体积百分比不同情况下光学常数的尺度效应进行了理论计算,并将理论计算结果与Evans的实验数据进行了比较。结果表明：金属微粒在低体积百分比（f1 25%）情况下,所用修正M-G理论计算金属陶瓷薄膜所得的光学常数更符合Evans的实验数据。从而得到金属陶瓷薄膜光学常数微尺度效应的最佳修正因子,为实际研制开发新型薄膜材料提供科学的分析方法。 相似文献