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利用几何画板软件 ,对黑体辐射能量密度分布曲线进行模拟研究。设计了一种“参数替换法” ,根据普朗克公式 ,给出了各种温度下分别以频率和波长为横坐标的黑体辐射能量密度分布曲线。通过对各个参数的连续调节 ,可以动态地深入研究黑体辐射的能量密度分布曲线与各个参数的关系 ,并且对维恩位移定律和斯忒藩—玻耳兹曼定律也给出了直观的定量验证。 相似文献
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微气泡激光散射特性研究 总被引：4，自引：0，他引：4
根据Mie散射理论研究了在水介质中微空气泡的光散射特性,给出了相应的散射强度分布、散射光的偏振度与散射角的关系,以及前向散射光强与气泡半径的关系.发现在一定波长下,前向散射光强与气泡半径呈线性关系,为空气泡的测量提供了理论模型. 相似文献
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《赣南师范学院学报》2016,(3):18-21
采用传输矩阵法研究含一向列相液晶缺陷层的一维Double-period第五代准周期结构缺陷模的电控可调特性.计算外加电压与向列相液晶有效折射率的变化关系,数值模拟缺陷模波长的大小与外加电压的变化关系以及介质层中缺陷模波长的光场分布.结果表明:随外加电压的增大,缺陷模波长的大小向短波方向移动.介质层中缺陷模波长的光场分布呈现出局域现象,并且光场分布主要集中在缺陷层. 相似文献
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讨论了在支持波长路由的WDM网络中的路由波长分配算法。首先分析了若干种路由和波长分配方式,并给出了波长路由算法(RWA)存在的问题;然后简要地讨论了支持波长转换网络的一些特征及其存在的问题;最后根据ASON中的路由问题提出了影响路由问题的一些因素,分析了一些新算法。 相似文献
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多波长泵浦拉曼光纤放大器增益最大化研究 总被引：1，自引：0，他引：1
应用遗传算法，对多波长泵浦的拉曼光纤放大器的增益最大化进行了研究．结果表明，当传输信号的波长、功率和信道数给定时，该算法能够给出增益接近最佳时的泵浦光的波长和泵浦能量的取值．对不同类型光纤的计算显示，单波长泵浦能获得较大增益的光纤，在多波长泵浦时不一定能获得较大增益．这为多波长泵浦的光纤拉曼放大器的设计提供了参考． 相似文献
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薄膜干涉是一种常见、有用的干涉效应。现行大学物理教材中只讨论了光场的强度效应而忽略了频率效应。该文从相位差与光程差的关系出发，得到了干涉场中光强随光波频率(波长)的分布，结合具体实例，给出了归一化的光强(反射光与透射光)随波长变化的关系曲线。 相似文献
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应用遗传算法,对多波长泵浦的拉曼光纤放大器的增益曲线进行了优化设计．结果表明,当传输信号给定时,该算法能够给出增益曲线的平坦度接近最佳时的泵浦光的波长和泵浦能量的取值,从而为多波长泵浦的光纤拉曼放大器的设计提供了理论参考． 相似文献
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李凯 《中学物理教学参考》2004,33(3):20-21
仔细分析分光镜实验得到的光谱，七种单色光呈细带状分布，即波长不是一个确定的值，而是一个范围．实验与理论分析表明，实际的单色光即单一频率的光是不存在的，而是由在波长λ0附近，在△λ宽的范围内．由许多不同波长的光按一定的强度分布组合而成的．实际 相似文献
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盛虹 《渭南师范学院学报》2010,25(2):32-34
给出了用法布里—泊罗标准具测量光波波长的一种数据处理方法,该方法克服了传统方法中叉丝难以对准圆环中心而引入的误差,并对实验测量的光波波长作了不确定度评价. 相似文献
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应用MATLAB软件编程,作出夫琅禾费单缝衍射光强分布图形,通过改变光的波长、缝宽,观察单缝衍射的光强分布图象变化规律. 相似文献
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方银良 《数理天地(高中版)》2012,(10):35-35,37
机械波是质点的振动形式在介质中的传播,质点振动一个周期,波恰好前进一个波长．质点振动时间t,则波动距离x=vt．质点振动位移、波动位移与质点振动时间（波动时间）是一一对应的关系．若题目中给出时间t,可从时间t与周期T的关系人手;若给出质点平衡位置间的距离x,可从距离x与波长λ的关系人手． 相似文献
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利用时谐电磁场理论和时域有限差分数值方法分析了亚波长金属扫描探针电磁场模式的场型结构和空间分布及透射特性等主要的传输性质,导出了亚波长金属探针内球横电模和球横磁模各电磁场分量的解析表达,运用数值求解获得的精确本征值,得到了金属探针内几个低阶模在球横截面内的场型结构．时域有限差分数值模拟研究结果表明,时谐电磁场的空间分布在亚波长金属探针内呈现准周期性振荡变化,并且在传输径向坐标上会出现一个最大值,最大值的位置随光波波长发生改变,研究结果还表明,在亚波长探针内刻蚀可以更好地激发和引导表面等离子体激元波到达出射孔径端口,提高亚波长空心锥的透射率和增强光学仪器的空间分辨率． 相似文献
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亚波长金属光栅表面等离激元( SPP)具有光场局域增强、异常透射等现象,被广泛用于光刻。利用FDTD Solutions软件,改变金属光栅材料、周期、厚度等因素,通过有限时域差分方法探究表面等离共振光刻条纹分布特点。仿真结果表明,亚波长金属光栅光刻条纹分布周期是光栅的周期一半,光刻条纹强度在表面等离共振波长作用下也会大于入射光强度。该研究为微纳米光学器件的设计提供了依据。 相似文献
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